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Reduction of defect density in silicon quantum dot light-absorbers using hydrogen plasma treatment

Reduction of defect density in silicon quantum dot light-absorbers using hydrogen plasma treatment
使用氢等离子体处理降低硅量子点光吸收器中的缺陷密度
批准号：
20K05075
负责人：
Kurokawa Yasuyoshi
金额：
$2.83万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-20K05075/
关键词：
シリコン量子ドットプラズマ太陽電池ベイズ最適化水素

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期刊：
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通讯作者： 松見優志，後藤和泰，ビルデ マーカス，黒川康良，福谷克之，宇佐美徳隆
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通讯作者： 黒川 康良
共 21 条
    Development of innovative storage devices using silicon nanowire arrays
    • 批准号：
      16K14546
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.41万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Kurokawa Yasuyoshi
    • 依托单位：
      Nagoya University
    海外基金