Preparation of ordered through-hole membranes and thier applications
Preparation of ordered through-hole membranes and thier applications
有序通孔膜的制备及其应用
批准号：
20K05171
负责人：
Yanagishita Takashi
金额：
$2.83万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
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ALDを用いた二層陽極酸化による大周期アルミナスルーホールメンブレンの高効率形成
ALD双层阳极氧化高效形成大周期氧化铝通孔膜
ALD双层阳极氧化高效形成大周期氧化铝通孔膜
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[前田健作, 藤原航三, 伊髙 健治, 石川由加里，横江大作，菅原義弘，姚永昭, 金児紘征, 伊藤榛華，柳下 崇]
通讯作者：
伊藤榛華，柳下 崇
Preparation of Ordered Nanohole Arrays with High Aspect Ratios by Anodization of Prepatterned 304 Stainless Steel
预图案304不锈钢阳极氧化制备高深宽比有序纳米孔阵列
预图案304不锈钢阳极氧化制备高深宽比有序纳米孔阵列
DOI：
10.1149/1945-7111/ac7355
发表时间：
2022
期刊：
Journal of The Electrochemical Society
影响因子：
3.9
作者：
[Yanagishita Takashi, Osada Yuga, Masuda Takuya, Masuda Hideki]
通讯作者：
Masuda Hideki
テクスチャリングプロセスを適用したタングステンの陽極酸化挙動
应用毛化工艺的钨阳极氧化行为
应用毛化工艺的钨阳极氧化行为
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Huihong LIU, Hidetoshi FUJII, 増田啄哉，柳下 崇，益田秀樹]
通讯作者：
増田啄哉，柳下 崇，益田秀樹
テクスチャリングプロセスを用いた高規則性半導体ナノホールアレーの形成
使用纹理化工艺形成高度有序的半导体纳米孔阵列
使用纹理化工艺形成高度有序的半导体纳米孔阵列
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Huihong Liu, Hidetoshi FUJII, 増田啄哉，柳下 崇，益田秀樹]
通讯作者：
増田啄哉，柳下 崇，益田秀樹
ALDによる高規則性ポーラスアルミナへのTiO2成膜
ALD 在高度有序多孔氧化铝上形成 TiO2 薄膜
ALD 在高度有序多孔氧化铝上形成 TiO2 薄膜
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[劉 恢弘, 宮垣 徹也, 釜井 正善, 藤井 英俊, 伊藤榛華，柳下 崇]
通讯作者：
伊藤榛華，柳下 崇
共 11 条
Preparation of Ordered Porous Alumina Through-Hole Membrane by Two-Layer Anodization
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批准号：26390021
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.16万
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财政年份：2014
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负责人：Yanagishita Takashi
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依托单位：
海外基金