Development of High Performance Thin Film Encapsulation by VUV Photochemical Gel Conversion
Development of High Performance Thin Film Encapsulation by VUV Photochemical Gel Conversion
通过 VUV 光化学凝胶转化开发高性能薄膜封装
批准号：
20K05317
负责人：
Yoshida (Sun) Lina
金额：
$2.75万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
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OLED素子上へのウェットプロセスによるハイバリア構造の開発
OLED元件湿法高阻隔结构的开发
OLED元件湿法高阻隔结构的开发
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[孫麗娜, 佐々木 樹, 上村 佳歩, 高橋 辰宏, 硯里 善幸]
通讯作者：
硯里 善幸
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[L. Sun, T. Sasaki, T. Takahashi, T. Yoshida, Y. Suzuri]
通讯作者：
Y. Suzuri
塗布型 PHPS 水蒸気バリア膜における VUV 光焼成緻密化プロセスの解明
阐明涂层 PHPS 水蒸气阻隔膜的 VUV 光烘烤致密化过程
阐明涂层 PHPS 水蒸气阻隔膜的 VUV 光烘烤致密化过程
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[佐々木 樹, 孫 麗娜, 黒澤 優, 高橋 辰宏, 硯里 善幸]
通讯作者：
硯里 善幸
DOI：
--
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Sun Lina, Uda Kyota, Yoshida Tsukasa, Suzuri Yoshiyuki, 孫 麗娜]
通讯作者：
孫 麗娜
塗布型・高バリア性PHPS薄膜におけるVUV光焼成プロセスの解明
阐明涂层高阻隔 PHPS 薄膜的 VUV 光烘烤工艺
阐明涂层高阻隔 PHPS 薄膜的 VUV 光烘烤工艺
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[佐々木 樹, 上村 佳歩, 孫 麗娜, 高橋 辰宏, 硯里 善幸]
通讯作者：
硯里 善幸
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