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Development of production process of high gas barrier films by plasma chemical vapor deposition
等离子体化学气相沉积高阻气薄膜生产工艺开发
基本信息
- 批准号：25630357
- 负责人：
- 金额：$ 2.66万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份：2013
- 资助国家：日本
- 起止时间：2013-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（11）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
プラズマＣＶＤ法を用いたシリカ系ガスバリア膜の作製とガス透過速度の測定
采用等离子体CVD法制备二氧化硅基阻气膜并测量气体透过率
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Erika Takeda;Toshiki Deguchi;Hiroyuki Otsu and Motoaki Kawase;竹田依加 ・出口利樹 ・大津啓幸 ・河瀬元明;大津啓幸・竹田依加・河瀬元明
- 通讯作者：大津啓幸・竹田依加・河瀬元明
プラズマCVD法で作製したシリカ膜構造へのキャリアガスの影響
载气对等离子体CVD法制备二氧化硅薄膜结构的影响
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Erika Takeda;Toshiki Deguchi;Motoaki Kawase;竹田依加・出口利樹・河瀬元明
- 通讯作者：竹田依加・出口利樹・河瀬元明
Effects of feed gas composition on the properties of silica film prepared by plasma CVD
原料气组成对等离子体CVD制备二氧化硅薄膜性能的影响
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Erika Takeda;Toshiki Deguchi;Motoaki Kawase
- 通讯作者：Motoaki Kawase
CVD OF SILICA FILM FROM HEXAMETHYLDISILOXANE AND OXYGEN
用六甲基二硅氧烷和氧气 CVD 制备二氧化硅薄膜
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Erika Takeda;Ryo Takahashi;Sho Nagaya;Motoaki Kawase
- 通讯作者：Motoaki Kawase
プラズマCVD 法で製膜したシリカ膜の膜応力
等离子CVD法形成的二氧化硅膜的膜应力
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Akimitsu Miyaji;Teppei Miyoshi;Ken Motokura;Toshihide Bab;宮地 輝光・テキ ブンカ・馬場 俊秀;宮地輝光,中川聡矢,本倉 健,馬場俊秀;宮地輝光・本倉健・馬場俊秀;宮地輝光・馬場俊秀;脇坂知樹･竹田依加･河瀬元明
- 通讯作者：脇坂知樹･竹田依加･河瀬元明
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