Control of optoelectronic properties of non-stoichiometric compounds ScN by impurity doping

杂质掺杂控制非化学计量化合物ScN的光电性能

基本信息

  • 批准号:
    20K05335
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2020-04-01 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、ドナー、アクセプタの添加によるキャリア濃度を制御したScN薄膜、および、Scと同じ+3価をとる元素の固溶によるバンドギャップを制御したScN薄膜をMBE法により合成し、それらの光・電気特性を評価する。これにより、高い電子移動度を有するScNの半導体素子応用の可能性を検討するとともに、大きな非化学量論的組成をもつ化合物へのドーピングや、岩塩型結晶構造の機能性材料としての可能性についての知見を得ることも目的としている。本年度は、昨年度までに得られたMBE法による高品質単結晶薄膜の合成プロセスを用いて、アクセプタであるMgをドープしたScN薄膜の合成、Scよりもイオン半径の小さいAlをドープしたScN薄膜の合成に関する研究を実施した。また、MBE法により作製したScN薄膜について、合成後の高品質化、ドーピング効果の向上を目的とした窒素プラズマ雰囲気下での高温熱処理についても検討した。2022年7月1日から2023年6月30日まで、文部科学省へ出向することになったため、2022年6月30日から研究を中断している。
In this study, we investigated the synthesis of ScN thin films by MBE method, and evaluated the optical and electrical properties of ScN thin films by MBE method. The possibility of using SCN as a semiconductor element with high electron mobility is discussed in this paper. The possibility of using SCN as a functional material with high electron mobility is discussed in this paper. This year, the synthesis of high-quality crystalline thin films by MBE method was carried out. In addition, the MBE method is used to prepare ScN films, to improve the quality of the synthesized ScN films, to improve the quality of the ScN films, and to improve the quality of the ScN films. July 1, 2022-June 30, 2023, Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology, Ministry of Education, Ministry of Education, Science and Technology, Ministry of Education, Ministry

项目成果

期刊论文数量(2)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
MBE法により成長させたScN薄膜へのプラズマ照射の影響
等离子体辐照对MBE法生长ScN薄膜的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    大垣 武;坂口 勲;大橋 直樹
  • 通讯作者:
    大橋 直樹
MBE法によるGaN/ScNヘテロ構造の作製
MBE法制备GaN/ScN异质结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    横山喬亮;重田出;野村明子;湯葢邦夫;山内徹;鹿又武;梅津理恵;廣井政彦;大垣 武・坂口 勲・大橋 直樹
  • 通讯作者:
    大垣 武・坂口 勲・大橋 直樹
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大垣 武其他文献

MBE法によるサファイア基板上へのScN薄膜のヘテロエピタキシャル成長
MBE法在蓝宝石衬底上异质外延生长ScN薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    大垣 武;渡邉 賢;坂口 勲;菱田 俊一;大橋 直樹;羽田 肇
  • 通讯作者:
    羽田 肇
He+ LEIS analysis combined with pulsed jet technique of gas sensing mechanism on semiconductor gas sensor surfaces
何LEIS分析结合脉冲喷射技术的半导体气敏元件表面气敏机理
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    鈴木 拓;安達 裕;大垣 武;坂口 勲.
  • 通讯作者:
    坂口 勲.
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    鈴木 拓;安達 裕;大垣 武;坂口 勲.
  • 通讯作者:
    坂口 勲.
MBE法により作製したScN薄膜の電気特性
MBE法制备ScN薄膜的电学性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    大垣 武;渡邉 賢;坂口 勲;大橋 直樹;羽田 肇
  • 通讯作者:
    羽田 肇
低速He+イオン散乱分光とパルスジェット法の組み合わせによる駆動中ガスセンサの最表面構造解析に関する検討
慢He+离子散射光谱与脉冲喷射法相结合分析气体传感器运行过程中最外表面结构的研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    鈴木 拓;安達 裕;大垣 武;坂口 勲
  • 通讯作者:
    坂口 勲

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