Ultra-high-speed PVD technology based on sputtering for one-by-one processing
Ultra-high-speed PVD technology based on sputtering for one-by-one processing
基于溅射的超高速PVD技术，可进行一对一加工
批准号：
19H02051
负责人：
KOUSAKA HIROYUKI
金额：
$11.15万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
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一個流し成膜に向けた同軸型マグネトロンスパッタリング装置の作動特性解明
阐明单片薄膜沉积同轴磁控溅射设备的操作特性
阐明单片薄膜沉积同轴磁控溅射设备的操作特性
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[末松 孝太，上坂 裕之, 古木 辰也]
通讯作者：
古木 辰也
Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
DOI：
10.1541/ieejfms.142.101
发表时间：
2022
期刊：
IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials
影响因子：
--
作者：
[Suematsu Kota, Kousaka Hiroyuki, Furuki Tatsuya, Shimizu Tetsuhide, Ohta Takayuki, Oda Akinori]
通讯作者：
Oda Akinori
棒形状基材包囲型の同軸型マグネトロンスパッタリング装置における実験的検討
绕棒状基体同轴磁控溅射装置的实验研究
绕棒状基体同轴磁控溅射装置的实验研究
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[末松孝太, 上坂裕之, 古木辰也]
通讯作者：
古木辰也
Development of HiPIMS deposition technology using a cylindrical target surrounding a substrate for one-piece-flow coating
开发 HiPIMS 沉积技术，使用围绕基底的圆柱形靶材进行单件流涂
开发 HiPIMS 沉积技术，使用围绕基底的圆柱形靶材进行单件流涂
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hiroyuki Kousaka, Kouta Suematsu, Tatsuya Furuki]
通讯作者：
Tatsuya Furuki
ロッド部品の1 ピースコーティング用に新開発された同軸型 マグネトロンスパッタリング装置のHiPIMS およびDCMS 駆動の比較
新开发的同轴磁控溅射设备用于杆件一体式涂层的 HiPIMS 和 DCMS 驱动器比较
新开发的同轴磁控溅射设备用于杆件一体式涂层的 HiPIMS 和 DCMS 驱动器比较
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hiroyuki Kousaka, Kouta Suematsu, Tatsuya Furuki, 末松 孝太，上坂 裕之，古木 辰也]
通讯作者：
末松 孝太，上坂 裕之，古木 辰也
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