Ultra-high-speed PVD technology based on sputtering for one-by-one processing

基于溅射的超高速PVD技术，可进行一对一加工

基本信息

  • 批准号：
    19H02051
  • 负责人：
    KOUSAKA HIROYUKI
  • 金额：
    $ 11.15万
  • 依托单位：
    Gifu University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份：
    2019
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（7）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
一個流し成膜に向けた同軸型マグネトロンスパッタリング装置の作動特性解明
阐明单片薄膜沉积同轴磁控溅射设备的操作特性
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    末松　孝太，上坂　裕之;古木　辰也
  • 通讯作者：
    古木　辰也
Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
  • DOI：
    10.1541/ieejfms.142.101
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
    IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Suematsu Kota;Kousaka Hiroyuki;Furuki Tatsuya;Shimizu Tetsuhide;Ohta Takayuki;Oda Akinori
  • 通讯作者：
    Oda Akinori
棒形状基材包囲型の同軸型マグネトロンスパッタリング装置における実験的検討
绕棒状基体同轴磁控溅射装置的实验研究
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    末松孝太;上坂裕之;古木辰也
  • 通讯作者：
    古木辰也
Development of HiPIMS deposition technology using a cylindrical target surrounding a substrate for one-piece-flow coating
开发 HiPIMS 沉积技术，使用围绕基底的圆柱形靶材进行单件流涂
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Hiroyuki Kousaka; Kouta Suematsu;Tatsuya Furuki
  • 通讯作者：
    Tatsuya Furuki
ロッド部品の1 ピースコーティング用に新開発された同軸型 マグネトロンスパッタリング装置のHiPIMS およびDCMS 駆動の比較
新开发的同轴磁控溅射设备用于杆件一体式涂层的 HiPIMS 和 DCMS 驱动器比较
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Hiroyuki Kousaka; Kouta Suematsu;Tatsuya Furuki;末松 孝太，上坂　裕之，古木　辰也
  • 通讯作者：
    末松 孝太，上坂　裕之，古木　辰也
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