Pb系トポロジカル絶縁体のバルク絶縁性向上

铅基拓扑绝缘体整体绝缘性能的改善

基本信息

  • 批准号:
    19J13968
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.09万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-25 至 2021-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

トポロジカル絶縁体(Topological Insulator, TI)は、狭いバンドギャップ(200-300 meV)を持ち、ギャップ間に表面に局在した電子状態が現れる。この表面電子は通常の物質とスピン偏極状態が大きく異なり、スピン流を非常に高効率に生成することができる。そのためスピントロニクスデバイス素子(MRAM)への応用が期待されている。工業応用上電流-スピン変換効率が最大となるTI材料開発が必要となるが、現状のTIはバルク絶縁性が低く、所望の表面伝導パスだけでなくバルク伝導パスが常に共存する。したがってスピン変換効率が低減してしまっている。本研究はTIの一種とされているPb(Bi,Sb)2(Te,Se)4のバルク絶縁体化および表面電子物性の評価を行った。一般にバルク絶縁性を向上させるために最も重要なパラメーターはバンドギャップの大きさである。近年、PbBi2(Te,Se)4 TIにおいて、もしSe原子が特有の結晶サイトにオーダリング配置されればバンドギャップが飛躍的に向上するとの予測がなされた。これをうけて本研究ではPbBi2(Te,Se)4におけるSe原子の占有位置の決定を走査型透過電子顕微鏡を用いて行った。この結果、Se原子は可能な占有サイトのうち、バンドギャップを最大とするinnerサイトにオーダリングしていることがわかった。つづいてバルク絶縁体化を行ったPb(Bi,Sb)2Te4が、実際にTIであるか否かについてSTMによる実験を行った。この結果、二次元電子状態が存在し完全後方散乱が禁止されていること、電子状態は線形な分散関係をもつことが明らかになった。これらの結果からPbSb2Te4は表面状態をもち、TIであると結論付けることが可能となった。さらにTI表面状態での散乱は通常の弾性散乱ではなく、スピン軌道散乱が支配的であることが分かった。この現象はスピンホール効果や異常ホール効果・弱半局在などの物理と密接に関係し、次世代スピントロニクスデバイスを創成する上で重要な知見となる。
Topological Insulator (TI) is a thin film (200-300 meV) with a thin film surface. The surface electrons are generated at a very high efficiency from the polarized state of the ordinary substance. MRAM is the most important part of MRAM. The current conversion efficiency in industrial applications is maximum, TI material development is necessary, TI insulation is low at present, and the desired surface conductivity is often blue shifted. The rate of change is decreasing. In this paper, a new kind of Ti is studied, which is Pb(Bi,Sb)2(Te,Se)4. The results show that Pb (Bi,Sb)2(Te,Se)4 is a new type of Ti. Generally speaking, the most important thing is to improve the quality of the products. In recent years, PbBi2(Te,Se)4 Ti atoms have been found to be unique to the crystal structure of Se atoms. In this study, the determination of the occupied positions of Se atoms in PbBi2(Te,Se)4 was investigated by electron microscopy. As a result, Se particles may be able to occupy the largest inner space. Pb(Bi,Sb)2Te4, Ti, STM, etc. As a result, the two-dimensional electronic state exists completely behind the scattered, prohibited, and the electronic state is linear, scattered, and related. PbSb2Te 4 surface state The surface state of TI is usually scattered, and the orbit is scattered. This phenomenon is the result of abnormal phenomena, weak half-state in the physical and close relationship, the next generation of high-level knowledge.

项目成果

期刊论文数量(7)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
磁性トポロジカル絶縁体MnBi2Te4の結晶作製と電気伝導評価
磁拓扑绝缘体MnBi2Te4晶体制备及电导率评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Reina YAMATAKE;Masato SHIINOKI;Yoshihiro KOBAYASHI ;Tadahiko MASAKI;Shinsuke SUZUKI;服部裕也,徳本有紀,枝川圭一
  • 通讯作者:
    服部裕也,徳本有紀,枝川圭一
Pb(Bi,Sb)2Te4トポロジカル絶縁体における準粒子干渉
Pb(Bi,Sb)2Te4 拓扑绝缘体中的准粒子干涉
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    服部裕也;徳本有紀、鷺坂恵介、枝川圭一
  • 通讯作者:
    徳本有紀、鷺坂恵介、枝川圭一
Evidences of inner Se ordering in topological insulator PbBi2Te4-PbBi2Se4-PbSb2Se4 solid solutions
  • DOI:
    10.1038/s41598-020-64742-6
  • 发表时间:
    2020-05
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.6
  • 作者:
    Y. Hattori;Y. Tokumoto;K. Kimoto;K. Edagawa
  • 通讯作者:
    Y. Hattori;Y. Tokumoto;K. Kimoto;K. Edagawa
Helical spin texture of Bi doped PbSb2Te4 topological insulator
Bi掺杂PbSb2Te4拓扑绝缘体的螺旋自旋织构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yuya Hattori;Yuki Tokumoto;Keisuke Sagisaka;Keiichi Edagawa
  • 通讯作者:
    Keiichi Edagawa
Electrical properties of Pb(Bi,Sb)2Te4 topological insulators
Pb(Bi,Sb)2Te4拓扑绝缘体的电性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yuya Hattori;Yuki Tokumoto and Keiichi Edagawa
  • 通讯作者:
    Yuki Tokumoto and Keiichi Edagawa
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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    吉澤 俊介;服部 裕也;枝川圭一;鷺坂 恵介
  • 通讯作者:
    鷺坂 恵介
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RHEED 2×2-C2H2 -Ni(111)结构测定精度
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    吉澤 俊介;服部 裕也;枝川圭一;鷺坂 恵介;川村隆明,小倉正平,深谷有喜,福谷克之
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{{ item.translation_title }}
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    {{ item.factor }}
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    {{ item.authors }}
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    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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