Development of chromatic aberration correction system for low voltage scanning electron microscope
Development of chromatic aberration correction system for low voltage scanning electron microscope
低压扫描电镜色差校正系统的研制
批准号：
19K04489
负责人：
Nishi Ryuji
金额：
$2.5万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2023-03-31
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Low-aberration ExB deflector optics for scanning electron microscopy
用于扫描电子显微镜的低像差 ExB 偏转光学器件
用于扫描电子显微镜的低像差 ExB 偏转光学器件
DOI：
10.1093/jmicro/dfad001
发表时间：
2023
期刊：
Microscopy
影响因子：
1.8
作者：
[Enyama Momoyo, Nishi Ryuji, Ito Hiroyuki, Yamasaki Jun]
通讯作者：
Yamasaki Jun
低加速SEMに向けた対称線電流補正器の色収差補正への拡張
将对称线电流校正器扩展到低加速度 SEM 色差校正
将对称线电流校正器扩展到低加速度 SEM 色差校正
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[西竜治, ホックシャヘドゥル, 伊藤博之, 鷹岡昭夫]
通讯作者：
鷹岡昭夫
Studies on electron optics correcting both chromatic and spherical aberrations with SYLC corrector
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批准号：16K06261
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.83万
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财政年份：2016
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负责人：Nishi Ryuji
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依托单位：
海外基金
