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背面入射中性子反射率法による省電力IC配線用銅めっき膜のその場観察構造評価

采用背入射中子反射法对节能IC布线用铜镀膜进行原位观察和结构评价

基本信息

批准号：
19K05089
负责人：
宮田登
金额：
$ 2.75万
依托单位：
一般財団法人総合科学研究機構(総合科学研究センター(総合科学研究室)及び中性子科学センター(研究開発
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-04-01 至 2024-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K05089/
关键词：
中性子反射率めっきその場観察

项目摘要

令和4年度は本研究課題の遂行に必要となる『中性子反射率法によるめっき膜の成長過程のその場観察システム』の開発に向けた試料セルの製作及び制御システムの検討を進めた。以下にこれらの進捗と成果について述べる。本システムで使用する試料セルには通常のめっき槽に求められる化学的耐性、温度制御、めっき液均一化（攪拌、フローなど）などの特性のほかに、めっき液の使用量の削減、セル全体の密閉性の確保など放射線汚染抑制対策が必要になる。本年度はそれらの機能を備えた試料セルの開発に向けて、市販の小型めっき容器を前述の仕様を満たすように、また、J-PARC MLF BL17中性子反射率計への試料マウントなどの仕様に合わせて改造することにより製作した。また、その場観察を行うためのシステムの制御には上記のセルの温度制御やめっき液均一化のフロー制御などに加え、中性子照射中は放射線防御の観点から試料セル周辺にはアクセスできないことから必要となるリモート制御、および中性子反射率計と連動した制御システムが必要となる。これまでめっき液のフローに必要となるリレーシステム、MLFの機器安全の仕様に合致する温度調整器などの開発を進めていて、これらの個別制御と上述の試料セルをシステムとして連動させる開発を進めている。一方で、感染症対策の影響を受けて個別の機能の開発に時間差が生じており、遅れている機能の早期の開発と、これらの装置を連動させるシステムの開発を進めているところである。

In order to carry out this research project in 2004, the development of the field observation system for the growth process of thin films by the intermediate reflectance method was carried out. The following is a summary of the results of the study. The sample used in this system is required for chemical resistance, temperature control, liquid homogenization (stirring, mixing), property improvement, reduction of liquid consumption, assurance of overall tightness, and suppression of radioactive contamination. This year, the function of preparing the test sample is to develop the test sample, market the small test container, and manufacture the test sample in J-PARC MLF BL17. The temperature control system of the field observation system and the temperature control system of the liquid homogenization system are added and the radiation defense system of the medium sub-irradiation system is added. The temperature regulator development process, the individual control process and the development process of the test sample development process are discussed in detail. On the one hand, the infection control strategy is affected by the development time difference of individual functions, and the early development of functions and devices is affected by the development of individual functions.