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Study on highly efficient ultra-precision polishing that maintains shape accuracy by combined application of magnetic and electric fields

Study on highly efficient ultra-precision polishing that maintains shape accuracy by combined application of magnetic and electric fields
磁场与电场联合应用保持形状精度的高效超精密抛光研究
批准号:
18K03891
负责人:
Nishida Hitoshi
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2018
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2018-04-01 至 2022-03-31

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期刊论文(62)
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特許権
专利权
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
DOI: 10.11420/jsat.63.191
发表时间: 2019
期刊: Journal of the Japan Society for Abrasive Technology
影响因子: --
作者: [山本久嗣,西田均,百生登,池田愼治,島田邦雄,井門康司]
通讯作者: 山本久嗣,西田均,百生登,池田愼治,島田邦雄,井門康司
磁気混合流体を用いた磁場・電場同時印加による平面内微細V溝に対する精密研磨
使用磁性混合流体同时施加磁场和电场,对平面内的精细 V 形槽进行精密抛光
DOI: --
发表时间: 2021
期刊:
影响因子: --
作者: [江口菜穂, 小寺邦彦, 山田洋平, 那須野智江, 小林健太, 大野健太,伊達宏昭,金井理, 西田均,島田邦雄,井門康司,山本久嗣]
通讯作者: 西田均,島田邦雄,井門康司,山本久嗣
磁場と電場の同時印加によるMCF平面研磨の加工量特性
磁场和电场同时施加的MCF平面抛光的加工量特性
DOI: --
发表时间: 2020
期刊:
影响因子: --
作者: [Kunihiko Kodera, Nawo Eguchi, Rei Ueyama, Beatriz M Funatsu, and Claud Chantal, 森谷亮太,金井理,伊達宏昭,新名恭仁,本間亮平, 藤平晃太朗,西田均,山本久嗣,高橋秀治,木倉宏成]
通讯作者: 藤平晃太朗,西田均,山本久嗣,高橋秀治,木倉宏成
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    Development study of super precision polishing with maintenance of form accuracy for surface having micro-complex shapes using nano-sized magnetic clusters
    国内基金
    海外基金
    氧化镓超精密研磨过程中解理断裂机理及其调控方法研究
    • 批准号:
      51675457
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      62.0万元
    • 批准年份:
      2016
    • 负责人:
      周海
    • 依托单位:
    超声椭圆振动协同化学作用辅助固结磨粒高效超精密研磨大直径硅片技术
    • 批准号:
      51065011
    • 项目类别:
      地区科学基金项目
    • 资助金额:
      26.0万元
    • 批准年份:
      2010
    • 负责人:
      杨卫平
    • 依托单位:
    弹性电化超精密研磨方法及设备的研究
    • 批准号:
      59375234
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      6.0万元
    • 批准年份:
      1993
    • 负责人:
      庞滔
    • 依托单位:
    石材平板超精密研磨及其精度控制的研究
    • 批准号:
      59075192
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      4.0万元
    • 批准年份:
      1990
    • 负责人:
      薛秉源
    • 依托单位: