Development of silicon and nitrogen co-doped diamond-like carbon with high functionality
高功能硅氮共掺杂类金刚石碳的研制
基本信息
- 批准号:18K04688
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2018
- 资助国家:日本
- 起止时间:2018-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(14)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Si添加DLC薄膜への窒素添加の効果
氮添加对Si掺杂DLC薄膜的影响
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:中村和樹;大橋遼;横山大;田島圭一郎;遠藤則史;末光眞希;遠田義晴;小林康之;鈴木裕史;中澤日出樹
- 通讯作者:中澤日出樹
窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果
添加氮退火对DLC薄膜性能的影响
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:長内公哉;中村和樹;郡山春人;小林康之;遠田義晴;鈴木裕史;末光眞希;中澤日出樹
- 通讯作者:中澤日出樹
窒素添加DLC膜特性へのアニール効果
退火对加氮DLC薄膜性能的影响
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:長内公哉;中村和樹;郡山春人;小林康之;遠田義晴;鈴木裕史;中澤日出樹
- 通讯作者:中澤日出樹
ポストアニールが窒素添加DLC膜特性に及ぼす効果
后退火对氮掺杂DLC薄膜性能的影响
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:長内公哉;中村和樹;小林康之;遠田義晴;鈴木裕史;末光眞希;中澤日出樹
- 通讯作者:中澤日出樹
炭素系薄膜の作製と評価
碳基薄膜的制备与评价
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:長内公哉;中村和樹;郡山春人;小林康之;遠田義晴;鈴木裕史;末光眞希;中澤日出樹;中澤日出樹
- 通讯作者:中澤日出樹
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Nakazawa Hideki其他文献
Sensing surface mechanical deformation of soft materials using biomolecular motors
使用生物分子马达感测软材料的表面机械变形
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Osanai Hiroya;Nakamura Kazuki;Sasaki Yuya;Koriyama Haruto;Kobayashi Yasuyuki;Enta Yoshiharu;Suzuki Yushi;Suemitsu Maki;Nakazawa Hideki;Arif Md. Rashedul Kabir - 通讯作者:
Arif Md. Rashedul Kabir
Effects of source gases on the properties of silicon/nitrogen-incorporated diamond-like carbon films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
源气体对等离子体增强化学气相沉积硅/氮掺入类金刚石碳薄膜性能的影响
- DOI:
10.1016/j.tsf.2017.05.046 - 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:2.1
- 作者:
Nakazawa Hideki;Magara Kohei;Takami Takahiro;Ogasawara Haruka;Enta Yoshiharu;Suzuki Yushi - 通讯作者:
Suzuki Yushi
マイクロデバイスを用いた膜小胞融合と内封DNAの増幅
使用微型装置进行膜囊泡融合和封装 DNA 的扩增
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Nakazawa Hideki;Nakamura Kazuki;Osanai Hiroya;Sasaki Yuya;Koriyama Haruto;Kobayashi Yasuyuki;Enta Yoshiharu;Suzuki Yushi;Suemitsu Maki;加藤康佑,津金麻実子,篠原啓佑,沖田勉,鈴木宏明 - 通讯作者:
加藤康佑,津金麻実子,篠原啓佑,沖田勉,鈴木宏明
Utility of biomolecular motors for a minimal artificial brain
生物分子马达在最小人造大脑中的应用
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Nakazawa Hideki;Nakamura Kazuki;Osanai Hiroya;Sasaki Yuya;Koriyama Haruto;Kobayashi Yasuyuki;Enta Yoshiharu;Suzuki Yushi;Suemitsu Maki;加藤康佑,津金麻実子,篠原啓佑,沖田勉,鈴木宏明;Arif Md. Rashedul Kabir - 通讯作者:
Arif Md. Rashedul Kabir
Growth of 3C-SiC(111) on AlN/off-axis Si(110) hetero-structure and formation of epitaxial graphene thereon
3C-SiC(111)在AlN/离轴Si(110)异质结构上的生长及其上外延石墨烯的形成
- DOI:
10.7567/1347-4065/ab2536 - 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:
Narita Syunki;Nara Yuki;Enta Yoshiharu;Nakazawa Hideki - 通讯作者:
Nakazawa Hideki
Nakazawa Hideki的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('Nakazawa Hideki', 18)}}的其他基金
Development and enhancement of novel functions of silicon/nitrogen-doped diamond-like carbon films
硅/氮掺杂类金刚石碳膜新功能的开发和增强
- 批准号:
15K06432 - 财政年份:2015
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
相似海外基金
プラズマ化学気相成長法によるカーボンナノチューブの成長制御および電子放出特性
等离子体化学气相沉积碳纳米管的生长控制及电子发射特性
- 批准号:
13750273 - 财政年份:2001
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)