Development of silicon and nitrogen co-doped diamond-like carbon with high functionality
Development of silicon and nitrogen co-doped diamond-like carbon with high functionality
高功能硅氮共掺杂类金刚石碳的研制
批准号：
18K04688
负责人：
Nakazawa Hideki
金额：
$2.83万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-04-01 至 2021-03-31
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Si添加DLC薄膜への窒素添加の効果
氮添加对Si掺杂DLC薄膜的影响
氮添加对Si掺杂DLC薄膜的影响
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[中村和樹, 大橋遼, 横山大, 田島圭一郎, 遠藤則史, 末光眞希, 遠田義晴, 小林康之, 鈴木裕史, 中澤日出樹]
通讯作者：
中澤日出樹
窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果
添加氮退火对DLC薄膜性能的影响
添加氮退火对DLC薄膜性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長内公哉, 中村和樹, 郡山春人, 小林康之, 遠田義晴, 鈴木裕史, 末光眞希, 中澤日出樹]
通讯作者：
中澤日出樹
窒素添加DLC膜特性へのアニール効果
退火对加氮DLC薄膜性能的影响
退火对加氮DLC薄膜性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長内公哉, 中村和樹, 郡山春人, 小林康之, 遠田義晴, 鈴木裕史, 中澤日出樹]
通讯作者：
中澤日出樹
炭素系薄膜の作製と評価
碳基薄膜的制备与评价
碳基薄膜的制备与评价
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長内公哉, 中村和樹, 郡山春人, 小林康之, 遠田義晴, 鈴木裕史, 末光眞希, 中澤日出樹, 中澤日出樹]
通讯作者：
中澤日出樹
ポストアニールが窒素添加DLC膜特性に及ぼす効果
后退火对氮掺杂DLC薄膜性能的影响
后退火对氮掺杂DLC薄膜性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長内公哉, 中村和樹, 小林康之, 遠田義晴, 鈴木裕史, 末光眞希, 中澤日出樹]
通讯作者：
中澤日出樹
共 13 条
Development and enhancement of novel functions of silicon/nitrogen-doped diamond-like carbon films
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批准号：15K06432
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.24万
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财政年份：2015
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负责人：Nakazawa Hideki
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依托单位：
海外基金