Development and enhancement of novel functions of silicon/nitrogen-doped diamond-like carbon films
Development and enhancement of novel functions of silicon/nitrogen-doped diamond-like carbon films
硅/氮掺杂类金刚石碳膜新功能的开发和增强
批准号：
15K06432
负责人：
Nakazawa Hideki
金额：
$3.24万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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Preparation and characterization of nitrogen/silicon-incorporated diamond-like carbon films
氮/硅掺入类金刚石碳膜的制备及表征
氮/硅掺入类金刚石碳膜的制备及表征
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Nakazawa, K. Nakamura, H. Ohashi, T. Yokoyama, K. Tajima, N. Endo, M. Suemitsu, Y. Enta, Y. Kobayashi, Y. Suzuki]
通讯作者：
Y. Suzuki
DOI：
10.1016/j.tsf.2018.03.075
发表时间：
2018-05
期刊：
Thin Solid Films
影响因子：
2.1
作者：
[H. Nakazawa;S. Miura;K. Nakamura;Y. Nara]
通讯作者：
H. Nakazawa;S. Miura;K. Nakamura;Y. Nara
高周波プラズマ化学気相成長法による窒素添加DLC薄膜の膜特性への基板バイアスの影響
衬底偏压对高频等离子体化学气相沉积氮掺杂DLC薄膜薄膜性能的影响
衬底偏压对高频等离子体化学气相沉积氮掺杂DLC薄膜薄膜性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[土屋政人, 村上和輝, 佐藤達人, 高見貴弘, 遠田義晴, 中澤日出樹]
通讯作者：
中澤日出樹
Effects of nitrogen doping on the chemical bonding states and properties of silicon-doped diamond-like carbon films
氮掺杂对硅掺杂类金刚石碳薄膜化学键态和性能的影响
氮掺杂对硅掺杂类金刚石碳薄膜化学键态和性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Kazuki Nakamura, Haruka Ohashi, Tai Yokoyama, Kei-ichiro Tajima, Norifumi Endo, Maki Suemitsu, Yoshiharu Enta, Yasuyuki Kobayashi, Hideki Nakazawa]
通讯作者：
Hideki Nakazawa
Impacts of substrate bias and dilution gas on the properties of Si-doped diamond-like carbon films by plasma deposition using organosilane as a Si source
基底偏压和稀释气体对有机硅烷作为硅源等离子沉积硅掺杂类金刚石碳薄膜性能的影响
基底偏压和稀释气体对有机硅烷作为硅源等离子沉积硅掺杂类金刚石碳薄膜性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Nakazawa, S. Miura]
通讯作者：
S. Miura
共 14 条
Development of silicon and nitrogen co-doped diamond-like carbon with high functionality
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批准号：18K04688
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.83万
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财政年份：2018
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负责人：Nakazawa Hideki
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依托单位：
海外基金