Innovative Exposure Assessment System for Nano Products to use DMA-GED-ICP/MS.
Innovative Exposure Assessment System for Nano Products to use DMA-GED-ICP/MS.
使用 DMA-GED-ICP/MS 的纳米产品创新暴露评估系统。
批准号：
18K11677
负责人：
Matsui Yasuto
金额：
$2.41万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-04-01 至 2022-03-31
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ナノ粒子の表面修飾と細胞内への取り込み量との関係性
纳米粒子表面修饰与细胞摄取量的关系
纳米粒子表面修饰与细胞摄取量的关系
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[四ノ宮美保, 四ノ宮成祥, 松井康人]
通讯作者：
松井康人
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Shigeru Kimoto, Yoshiro Sadatani, YasutoMatsui, Minoru Yoneda]
通讯作者：
Minoru Yoneda
Exposure Assessment of Market Products Including Nanomaterial in General Use and Disposal Process
一般使用和处置过程中包括纳米材料在内的市场产品的暴露评估
一般使用和处置过程中包括纳米材料在内的市场产品的暴露评估
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Matsui Yasuto, Kimoto Shigeru, Yoneda Minoru,]
通讯作者：
Yoneda Minoru,
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Wen-Lu Wang, Shigeru Kimoto, Yasuto Matsui, Minoru Yoneda]
通讯作者：
Minoru Yoneda
University of Oregon/Department of Chemistry and Biochemistry(米国)
俄勒冈大学/化学与生物化学系（美国）
俄勒冈大学/化学与生物化学系（美国）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
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