Research of MEMS micro ion source using ion liquid

利用离子液体的MEMS微离子源研究

• 批准号: 24651157
• 负责人: KUWANO Hiroki
• 金额: $ 2.58万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2014-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-24651157/
• 关键词: マイクロファブリケーション; MEMS; FIB; イオン液体; 集束イオンビーム; マイクロイオン源アレイ

We succeeded a fabrication of focused micro ion source array using micromachining technologies. Our micro ion source has below than 50 nm in tip radius, 50 um in emitter radius, and 150 um in emitter height. Twenty five (5x5) micro ion sources were fabricated by butch processing in the area 4 mm2. Micro ion beam of ion liquid (EMIM-BF4) was confirmed. By using Quadra pole mass spectroscopy, it is shown that our micro ion beam etches Si substrate reactively.

我们成功地利用微加工技术制作了聚焦微离子源阵列。微离子源的尖端半径小于50 nm，射极半径小于50 um，射极高度小于150 um。在面积为4 mm2的区域内，采用分段加工工艺制备了25个（5x5）微离子源。离子液体的微离子束（EMIM-BF4）得到了证实。用四极质谱分析表明，我们的微离子束可以反应性地腐蚀硅衬底。

项目成果

Cconcurrent reactive ion etching employing micromachined ionic liquid ion source array

采用微机械离子液体离子源阵列的并发反应离子蚀刻

• 发表时间: 2014
• 作者: Ryo Yoshida;Motoaki Hara;Hiroyuki Oguchi;Tatsuya Suzuki;and Hiroki Kuwano
• 通讯作者: and Hiroki Kuwano

IONIC-LIQUID MICRO ION SOURCE ARRAY FOR FLEXYBLE CONCURRENT MEMS PROCESS

用于灵活并发 MEMS 工艺的离子液体微离子源阵列

• 发表时间: 2013
• 作者: Tatsuya Suzuki;Motoaki Hara;Hiroyuki Oguchi;and Hiroki Kuwano;Tatsuya Suzuki
• 通讯作者: Tatsuya Suzuki

Ionic-liquid micro ion source array for flexible concurrent MEMS process

用于灵活并发 MEMS 工艺的离子液体微离子源阵列

• 发表时间: 2013
• 作者: Tatsuya Suzuki;Motoaki Hara;Hiroyuki Oguchi;and Hiroki Kuwano
• 通讯作者: and Hiroki Kuwano

マイクロイオン源アレイ

微离子源阵列

• 发表时间: 2012

イオン源および集束イオンビーム装置

离子源和聚焦离子束装置

• 发表时间: 2013