Research on ultrashort-wavelength vacuum ultraviolet generation by using stimulated Raman scattering

受激拉曼散射产生超短波长真空紫外线的研究

基本信息

批准号：
24656048
负责人：
YOSHIMURA Masashi
金额：
$ 2.58万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2012
资助国家：
日本
起止时间：
2012-04-01 至 2014-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

We have improved laser-induced damage tolerance of CsLiB6O10 (CLBO), and attempted to construct vacuum-ultraviolet (VUV) laser source below 190 nm as a new pump source of anti-Stokes (AS) stimulated Raman scattering (SRS). By using an Nd:YAG laser, the fifth harmonic and infrared (IR) OPO at 1697.9 nm were generated via several frequency conversion stages. At the final stage, VUV light below 190 nm was generated by sum-frequency generation with the fifth-harmonic and IR in a CLBO. A 189 nm output was produced with a conversion efficiency of 7.3% from the 213 nm input. Based on the experimental result, we have newly designed VUV laser system at 185 nm using a 20-W Nd:YAG laser with high-peak power density. Although we are currently constructing the final stage in the system, we estimate the average power over 100 mW at 185 nm and expect ultrashort-wavelength VUV radiation by SRS in H2 such as 1st, 3rd, and 8th AS lines at 172, 150, and 115 nm.

我们改善了CSLIB6O10（CLBO）的激光诱导的损伤耐受性，并试图构建真空吸尘器（VUV）激光源以下190 nm以下，作为抗螺旋杆（AS）刺激的拉曼散射（SRS）的新泵来源。通过使用nd：yag激光器，通过几个频率转换阶段生成了1697.9 nm处的第五个谐波和红外（IR）OPO。在最后阶段，与CLBO中的第五次谐波和IR相加的频率产生了190 nm以下的VUV光。产生189 nm的输出，转化效率为213 nm的输入7.3％。根据实验结果，我们使用具有高峰值功率密度的20-w ND：YAG激光器在185 nm处新设计的VUV激光系统。尽管我们目前正在系统中构建最后一个阶段，但我们估计在185 nm处的100 mW的平均功率超过100 mW，并期望SRS在H2中的超短波长VUV辐射，例如第1、3和8号线，为172、150和115 nm的线。

项目成果

期刊论文数量（51）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

VUV light generation with borate crystals

使用硼酸盐晶体产生 VUV 光

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
C. Qu;M. Yoshimura;J. Tsunoda;Y. Kaneda;M. Imade;T. Sasaki;and Y. Mori
通讯作者：
and Y. Mori

UV laser-induced degradation in CsLiB_6O_<10>

紫外激光诱导 CsLiB_6O_<10> 的降解

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
K. Takachiho;M. Yoshimura;K. Masuda;Y. Takahashi;M. Imade;T. Sasaki;and Y. Mori
通讯作者：
and Y. Mori

Sub-180 nm generation with borate crystal

使用硼酸盐晶体的亚 180 nm 一代

DOI：
10.1016/j.optmat.2014.01.021
发表时间：
2014
期刊：
Optical Materials
影响因子：
3.9
作者：
C. Qu;M. Yoshimura;J. Tsunoda;Y. Kaneda;M. Imade;T. Sasaki;and Y. Mori
通讯作者：
and Y. Mori

Impurity control of CsLiB_6O_<10> for improving UV-induced damage tolerance

CsLiB_6O_<10> 的杂质控制可提高紫外损伤耐受性

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
K. Takachiho;M. Yoshimura;K. Masuda;Y. Takahashi;M. Imade;T. Sasaki;and Y. Mori
通讯作者：
and Y. Mori

Development of CsLiB_6O_<10> for vacuum-UV light generation

用于真空紫外光发生的 CsLiB_6O_<10> 的开发

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Yoshimura;Y. Takahashi;T. Sasaki;and Y. Mori
通讯作者：
and Y. Mori

DOI：
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期刊：
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作者：
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DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
TOYODA Satoshi;YAMAMOTO Tomoki;YOSHIMURA Masashi;SUMIDA Hirosuke;MINEOI Susumu;MACHIDA Masatake;YOSHIGOE Akitaka;SUZUKI Satoru;YOKOYAMA Kazushi;OHASHI Yuji;KUROSAWA Shunsuke;KAMADA Kei;SATO Hiroki;YAMAJI Akihiro;YOSHINO Masao;HANADA Takashi;YOKOTA Yuui;YO;豊田智史
通讯作者：
豊田智史