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Improvement of mobility for CVD graphene by removing catalytic metal

Improvement of mobility for CVD graphene by removing catalytic metal
通过去除催化金属提高 CVD 石墨烯的迁移率
批准号:
24656456
负责人:
NAGASHIO Kosuke
金额:
$2.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2012
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-04-01 至 2014-03-31

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CVD growth of graphene is simple and effective way for graphene synthesis. In this study, mica(001) substrate was used to obtain the single crystal graphene, instead of Al2O3 and MgO. The Cu deposition of 800 nm in thickness was carried out on mica. After the H2 annealing at 1000 C, the surface roughness was reduced to 0.5 nm (RMS), which indicates very smooth surface for graphene growth. Based on the precise control of H2/Ar gas flow, high quality graphene could be grown on Cu. This was confirmed by Raman. The mobility of measured device was ~4500 cm2/Vs.
期刊论文(7)
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科研奖励(0)
会议论文
東京大学マテリアル工学専攻長汐研究室
东京大学材料工学部长潮实验室
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
CH_4-CVD単層グラフェン成長におけるH_2流量効果
H_2流量对CH_4-CVD单层石墨烯生长的影响
DOI: --
发表时间: 2013
期刊:
影响因子: --
作者: [斉鈞雷, 長汐晃輔, 西村知紀, 鳥海明]
通讯作者: 鳥海明
DOI: 10.1088/0957-4484/25/18/185602
发表时间: 2014-03
期刊: Nanotechnology
影响因子: 3.5
作者: [Junlei Qi;Junlei Qi;K. Nagashio;T. Nishimura;A. Toriumi]
通讯作者: Junlei Qi;Junlei Qi;K. Nagashio;T. Nishimura;A. Toriumi
Crystal orientation relation and macroscopic surface roughness in hetero-epitaxially grown graphene on Cu/mica
Cu/云母上异质外延生长石墨烯的晶体取向关系和宏观表面粗糙度
DOI: --
发表时间: 2014
期刊: nanotechnology
影响因子: 3.5
作者: [J. L. Qi, K. Nagashio, T. Nishimura, and A. Toriumi]
通讯作者: and A. Toriumi
Current injection at the graphene/metal interface with the large difference in DOSs
  • 批准号:
    24686039
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $16.81万
  • 财政年份:
    2012
  • 负责人:
    NAGASHIO Kosuke
  • 依托单位:
Increase in off current of bilayer graphene by band gap engineering caused by external electrostatic field
  • 批准号:
    21710136
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $3.0万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    NAGASHIO Kosuke
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
超宽禁带半导体金刚石CVD制备与掺杂技术研发
CVD 金刚石薄膜在原子气室中的抗弛豫原理 与方法研究
  • 批准号:
    Q24F040034
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2024
  • 负责人:
    于会尧
  • 依托单位:
“缓释控源”CVD精准合成转角二维范德华异质结及其神经突触器件研究
  • 批准号:
    62404060
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2024
  • 负责人:
    刘明强
  • 依托单位:
(xZrC-yHfC-zSiC)/SiC多层交替涂层的多相共沉积机理及其一步CVD法制备研究
  • 批准号:
    52302071
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    30.00万元
  • 批准年份:
    2023
  • 负责人:
    李博
  • 依托单位: