ガスレーザークリーニングによる高価基板のリサイクル

通过气体激光清洗回收昂贵的基材

• 批准号: 26918013
• 负责人: 東畠 三洋
• 金额: $ 0.19万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Scientists
• 财政年份: 2014
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2014-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-26918013/
• 关键词: レーザークリーニング; サファイア基板; フラットトップビーム

本研究の目的は, 我々研究室において大量消費している高価なAl_2O_3(サファイア)基板の再利用である. 研究背景として我々は, GaN(窒化ガリウム)に代わる有望な化合物半導体材料である安価で安全なZnO(酸化亜鉛)を主材料としたナノ構造体による白色LEDの研究開発を行っており, そのZnOナノ構造体は主にAl_2O_3基板上に作製している. 用いている単結晶Al_2O_3基板は, 近年量産化技術の確立により価格が下がってきているが, 機械的強度があるため加工費がかかり, 現在も1枚当たり数千円での納入となっている. しかし, 良質なZnOナノ構造体を得るためには、数多くの条件での試作を必要とし, それに伴い大量のAl_2O_3基板を消費している現状がある. また近年の研究費削減による購入枚数の制限や資源の有効利用という観点からも再利用は非常に有意義であり, 不可欠であると考えている. 今回の試みにより年間数十万円程度の経費削減につながり, また, この技術を用いた他材料への応用や他技術へ応用についても発展していくと考えており, 日々研究を遂行している.本年度は, 用いたレーザー照射強度のバラつき(ガウシアンビームによる)や, レーザースキャン時におけるビーム重なりによる基板表面のダメージによりナノ構造体の成長スピード等に違いが出ることを確認した. そこで, これらの結果を踏まえ, フラットトップビームのガスレーザーであるKrFエキシマレーザー(COHERENT社製 COMPexPro102F)を用い, 1パルスによりクリーニングを確認した. 現在, その最適照射条件について探っている.

The purpose of this study is to recycle Al_2O_3 (サファイア) substrates that consume a large amount of materials in our laboratory. Background of the study: GaN (GaN) GaN is a promising compound semiconductor material and is a safe ZnO (Acidified lead) としたナノ structure による white LED の research development 発を行っており, The そのZnO nanostructure is mainly produced on an Al_2O_3 substrate. The Al_2O_3 substrate is crystallized using いている単. In recent years, mass production technology has been established, The strength of the machine and the processing fee are the same, and now the price of one piece is several thousand yen. Good quality ZnO structures are obtained, many conditions are required, and trial production is necessary, and a large amount of Al_2O_3 substrates are consumed, and the current situation is the same. In recent years, research expenses have been reduced, the number of pieces purchased has been limited, and resources have been effectively utilized. Recycling is very meaningful, and it cannot be ignored. This time I try to reduce the levy by hundreds of thousands of yen during the year, また, このTechnologyを用いたhis materialへの応用やhis techniqueへ応用についても発开していくと考えており, The Japanese research is carried out this year. This year, the irradiation intensity of the irradiation intensity is used.レーザースキャン时におけるビーム重なりによるSubstrate surface のダメーThe growth of the ジによりナノstructural body, etc., にviolation, いが出, ることをconfirmation, した.そこで, これらのRESULTSをstepまえ, フラットトップビームのガスレーザーであるKrFエキシマレーザー(made by COHERENT COMPexPro102F) is used, 1パルスによりクリーニングをconfirmationした. Now, そのoptimal irradiation conditionsについてExplorationっている.

项目成果

ガスレーザークリーニングによる高価基板の再利用

通过气体激光清洗重复利用昂贵的基材

• 发表时间: 2014
• 作者: Koutaro Taniguchi;Yong Yu;Tomokazu Noma;Ryota Hayashi;Shuji Matsumoto;Megumi Shimodozono;Kazumi Kawahira;村上清人;Koutaro Taniguchi;谷口康太郎;Koutaro Taniguchi;中西喜美雄;和田真人;和田真人;和田真人;和田真人;和田真人;和田真人;和田真人;和田真人;安中裕大;櫛田直人;櫛田直人;櫛田直人;吉田昌弘;東畠三洋
• 通讯作者: 東畠三洋