金サマリウム合金の薄膜物性と電子放出特性に関する研究

金钐合金薄膜性能及电子发射性能研究

基本信息

  • 批准号:
    12750027
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.47万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    2000
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2000 至 2001
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

マグネトロンスパッタ法により、異なる組成を有する金サマリウム合金薄膜を形成し、その電子放出特性を超高真空中において調査した。薄膜の形成は平坦なシリコン基板及び、フォトリソグラフィを利用して形成した1024個のコーンを有するシリコンエミッタアレイの上に行った。測定は金球をコレクタとする二極管構造で電極間隔を1.5μmとして行った。まずはじめに、平坦な基板上に成膜した試料については、いずれの試料に対しても電界変換係数が等しいと仮定することにより、ファウラー・ノルドハイムプロットの傾きから仕事関数を評価した。その結果、金組成と仕事関数の関係とは若干異なり、サマリウムに微量の金が混入したもの、サマリウムと金がおよそ同量のもの、金に微量のサマリウムが混入したものについては見かけの仕事関数が低いと言う結果になった。電子放出の安定性については雑音電力で評価し、見かけの仕事関数が低いものほど安定であることが明らかとなった。表面形態を原子間力顕微鏡で観測したところ、一部の試料については比較的大きな凹凸が存在することが明らかとなった。薄膜の仕事関数と電子放出特性から見た仕事関数の差違はこのような凹凸に起因する可能性がある。続いてシリコンエミッタアレイの上に成膜した金サマリウム合金からの電子放出特性を測定し、具体的なデバイスに近い形状での素子においても、平坦な試料と比較しておおむね同様な傾向の結果が得られた。以上の結果は従来研究者らが行ってきた仕事関数と電子放出の安定性の関係と類似しており、合金においても仕事関数の低いものほど電子放出特性が安定であることが明らかとなった。
Study on the formation and electron emission characteristics of metal alloy thin films with different compositions The thin film was formed on a flat substrate and a thin film was formed on the substrate. The electrode spacing of the diode structure is 1.5μm. For example, if a film is formed on a flat or flat substrate, the sample will be evaluated for the number of factors that affect the conversion coefficient of the sample. The result of the test, the composition of the gold, the relationship between the number of matters, the matters, the matters, The stability of electron emission is low and stable. The surface morphology is measured by atomic force microscope, and some samples are compared with large bumps. The number of electron emission characteristics of thin films depends on the possibility of the number of electron emission characteristics. The electron emission characteristics of the alloy were measured, and the results showed that the alloy samples were similar in shape and shape. The above results are similar to those of alloys, which are related to the stability of electron emission.

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
N.Kiwa: "Relationship between composition and work function of gold-samarium alloy thin films"Vacuum. (予定). (2002)
N.Kiwa:“金钐合金薄膜的成分与功函数的关系”真空(计划)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
紀和伸政: "サマリウム金薄膜の仕事関数評価"真空. 44・3(予定). (2001)
Nobumasa Kiwa:“钐金薄膜的功函数评估”真空44·3(计划)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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