低コスト太陽電池用半導体単結晶基板の新作製法

低成本太阳能电池用半导体单晶基板的新制造方法

• 批准号: 14655011
• 负责人: 成塚 重弥
• 金额: $ 1.22万
• 依托单位: Meijo University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Exploratory Research
• 财政年份: 2002
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2002 至 2003
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-14655011/
• 关键词: ステップフリーエピタキシー; メサ型リッジ; 回転双晶; 反位相領域(APD); ステップ源; 液相成長(LPE); Ge; らせん転位; チャンネル成長法(CGE); 温度差LPE成長; 温度勾配; 太陽電池; マイクロチャンネルエピタキシー; Si; パターン成長

本年度は昨年度に引き続きGeの液相成長(LPE)に関する研究を行った。昨年度はマスクエピタキシーによるピラミッド構造の作製を行ったが、本年度はメサ型のリッジパターンをあらかじめGe基板上に形成し、Geのステップフリーエピタキシーを試みた。ダイヤモンド構造を持つGe基板上に閃亜鉛鉱型構造をもつGaAsを成長する場合、(001)基板では基板表面にシングルステップが存在すると反位相領域(APD)が生じる。一方、(111)基板では基板表面にシングルステップが存在すると、ステップの両側で結晶方位が回転し、回転双晶が生じる。双方ともデバイス特性の大幅な劣化に結びつくので、Ge基板上に良好なGaAsを成長するためには、表面ステップの問題を解決する必要がある。そこで、本年度は、この問題を抜本的に解決すべくGe基板上のステップフリーエピタキシーを試みた。リッジサイズを減少すれば、ステップ源となるらせん転位が存在しないリッジが得られる。LPE成長の結果、成長速度の高いリッジのほかに成長が抑制されほぼ平坦に成長したリッジが得られた。このリッジは、ステップフリー成長の可能性がある。何故なら、表面上にステップが存在しなければ、極めて平坦な成長表面が得られる。また、ステップ源としてのらせん転位が存在しなければ、成長速度が大幅に抑制される。この平坦なリッジを原子間力顕微鏡(AFM)を用いて評価したところ、ステップ源が存在しないことが確認された。しかしながら、1原子層の深さを持つ3角形状のくぼみが存在した。これは、(111)Ge基板の表面対称生を反映したアンチドット構造であり、成因としては成長表面での2次元核発生が考えられる。一方、エッチピットの観察から、平坦なリッジ部でのピット密度は低く、らせん転位が存在しないことが示唆された。

This year, the research on liquid phase growth (LPE) of Ge was conducted last year. Last year, the production of Ge substrate was carried out. This year, Ge substrate was formed. In the case of GaAs growth on a Ge substrate, the presence of an anti-phase region (APD) on the substrate surface occurs. A square,(111) substrate has a crystal orientation on the surface of the substrate and a crystal orientation on the side of the substrate. Both sides of the substrate characteristics of a large degradation in junction, Ge substrate for good GaAs growth, surface temperature problems to solve. This year, we will try to solve this problem. The number of entries in the list decreases, and the number of entries in the list increases. The results of LPE growth, growth rate and growth inhibition, flat growth and growth. The possibility of growth is very high. Why does it exist on the surface? Why does it grow flat on the surface? The growth rate is greatly suppressed due to the existence of the source and the growth of the product. The existence of these flat surfaces is confirmed by atomic force microscopy (AFM). 1 atomic layer deep, 3 angular shapes, 1 atomic layer deep The surface of the (111)Ge substrate is reflected in the structure of the substrate, and the formation of the surface is studied. A square, a flat, a flat, a low density, a flat, a flat

项目成果

T.Maruyama, K.Matsuda, N.Saikawa, S.Naritsuka: "LPE growth of atomically flat Ge layer on a mesa pattern"Abstract of 2003 MRS fall meeting. 290 (2003)

T.Maruyama、K.Matsuda、N.Saikawa、S.Naritsuka：“在台面图案上原子平坦的 Ge 层的 LPE 生长”2003 年 MRS 秋季会议摘要。

S.Naritsuka, Y.Matsunaga, T.Nishinaga: "Crystallization mechanism of amorphous GaAs buffer layers on Si(001)"J. Research Institute of Meijo University. 2. 1-8 (2003)

S.Naritsuka，Y.Matsunaga，T.Nishinaga：“Si(001)上非晶GaAs缓冲层的结晶机制”J。

T.Maruyama, K.Yorozu, T.Noguchi, Y.Seki, Y.Saito, T.Araki, Y.Nanishi: "Surface treatment of GaN and InN using (NH_4)_2S_x"Phys.Stat.Sol.(c). 0・7. 2031-2034 (2003)

T.Maruyama、K.Yorozu、T.Noguchi、Y.Seki、Y.Saito、T.Araki、Y.Nanishi：“使用 (NH_4)_2S_x 对 GaN 和 InN 进行表面处理”Phys.Stat.Sol.(c) 0・7. 2031-2034 (2003)