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X線導波路現象を利用したナノビーム集光素子開発と応用

利用X射线波导现象的纳米束聚光器的研制与应用

基本信息

批准号：
16656192
负责人：
松原英一郎
金额：
$ 2.24万
依托单位：
Kyoto University (2005)Tohoku University (2004)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份：
2004
资助国家：
日本
起止时间：
2004 至 2005
项目状态：
已结题

项目摘要

X線導波路の特徴は、10〜100nmのサイズの干渉性の高いX線を発生することのできる微小X線源や、モノクロメーターのような分光器としての機能を有することである。ここではSi基板上に100nmのPMMAコア層をスピンコーティング法によって、さらにその上にスパッタ法によってSiクラッドを製膜した多層膜をX線導波路とした。計算機シミュレーションでは、効率よくX線を伝搬することのできるX線導波路の構造はエネルギーによって異なることを示しており、そのため、クラッド層の厚みは、0〜20nmの範囲において2nmステップで段階的に変化させた。本実験では、X線管球から放射される特性X線を分光させる目的でSi/PMMA/Siに対し白色X線を入射させ、X線導波路現象の観測を行った。WLβ線を最も効率よく伝搬させるためのクラッド層の厚みは、シミュレーションによって10nmと算出されたため、その試料に対して入射角度を調整し、伝搬X線を観測した。伝搬X線の出射角度依存性を詳細に調べた結果。TE0、1、2、3モードの導波路現象が生じていることが確認された。出射角度0°付近で観測されるTEOモードのエネルギーは9.75keVであり、WLβ線と一致し強度が増強されていることが判明した。MoKα線に対しても同様に分光が行えることも示された。また、ペンタセン薄膜においても同様にX線導波路現象を観測した。伝搬X線のエネルギーから導き出される膜の構造(膜厚50m、密度1.35g/cm^3)は他の評価法のものと良い一致を示した。AFMでの形態観測によると、膜厚に対して非常に大きな凹凸が表面に存在していたが、本結果より、滑らかな界面を持つ薄膜だけでなく、粗い界面を持つ薄膜に対してもX線導波路現象が生じることが示された。

The X-ray guided wave path is very sensitive, 10 ~ 100nm, and the temperature is very high. It is very sensitive to the small X-ray source, the X-ray spectrometer, the spectrometer, and the machine. On the Si substrate, the 100nm, PMMA, and so on, the Si film, the multi-film, the X-wave guide, the wave path, the wave path and the wave path. The computer is responsible for the accuracy of the computer, the computer The radiation characteristics of this tube ball, the X-ray spectrum, the purpose of the Si/PMMA/Si, the white X, the incident wave, and the X-guide wave path. WL β, the most accurate rate, the thickness, the 10nm, the incident angle, the angle of incidence, the angle of incidence. The output angle is dependent on the output angle of X-ray. TE0, 1, 2, 3 make sure that you don't know what to do. The exit angle is 0 °. The angle of exit is close to that of TEO. The angle of exit is close to that of 9.75keV and WL β. MoK α is the same as the spectroscopic line. The film is in the same direction as the X-ray guide. The film thickness is 50m and the density 1.35g/ cm ^ 3). The film thickness is 50m and the density is cm ^ 3. The shape of the AFM is sensitive to the thickness of the film, the thickness of the film is very large, the surface of the bump is very large, the interface is thin film, the interface is thin film, the thick interface is thin film, and the thick interface is thin film.