大強度紫外線源を用いた光電離プラズマの研究

高强度紫外光源光离子化等离子体的研究

• 批准号: 05680396
• 负责人: 田中 雅慶
• 金额: $ 1.09万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1993
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1993 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-05680396/
• 关键词: プラズマ; 紫外線; 光電離; 電子サイクロトロン波

本研究の目的はプラズマを紫外線源として用い,光電離プラズマを発生させその物理過程を明らかにすることである。プラズマを紫外線源とするためには,電子密度1×10^<19>m^<-3>電子温度10eV以上のプラズマが必要となるが,従来のプラズマ生成法ではその実現は困難であった。本研究では,電子サイクロトロン波を採用して高密度プラズマを生成し,プラズマ電流によるジュール加熱入力も併用する方式を目指した。そのため,特殊な構造のマイクロ波ランチャーが必要で,その開発を行った。新しいランチャーを用いてプラズマ発生実験を行ない,高密度プラズマ(1×10^<19>m^<-3>)が生成される事を確認した。また,プラズマ中に電流を流す実験も行い,20A程度まで通電できることを確認した。現在,100A通電のために改良を行っている。

The purpose of this study is to clarify the physical processes of ultraviolet radiation and photoionization. UV source and electron density 1×10^<19>m^<-3>electron temperature 10eV or more In this study, the use of high-density electric wave generation, electric current generation, electric current generation, Special structures are necessary for development. The new generation is confirmed by high density generation (1×10^<19>m^<-3>). In addition, it is confirmed that the current in the plug is actually flowing, and the power is on at a level of 20A. Now, 100A power on and improve the line.

项目成果

H.Shoyama: "High Density ECW Plasma Production with Counter-Injection of Microwaves" Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas and 11th Symposium on Plasma Processing. 347-350 (1994)

H.Shoyama：“微波反向注入的高密度 ECW 等离子体生产”Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas 和第 11 届等离子体处理研讨会。

M.Tanaka: "Multi-Plate Microwave Launcher for Producing High Density ECR Plasmas" Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas and 11th Symposium on Plasma Processing. 343-346 (1994)

M.Tanaka：“用于生产高密度 ECR 等离子体的多板微波发射器”Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas 和第 11 届等离子体处理研讨会。