環境低負荷な鉄とシリコンからなるベータ鉄シリサイド半導体を用いた太陽電池の検討
環境低負荷な鉄とシリコンからなるベータ鉄シリサイド半導体を用いた太陽電池の検討
批准号:
14655236
负责人:
舟窪 浩
金额:
$1.92万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2002
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2002 至 2003
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太陽電池は、クリーンなエネルギーで大規模な施設を必要としないため、エネルギー問題を解決する切り札として長年期待され研究されてきたが、現在までに十分普及しているとは言えない。その根本的な理由として、現在検討されているシリコン系のものは本質的に変換効率が最大13%と低く、構造が複雑となるため、低コスト化が測れないことが挙げられる。従って効率向上は不可欠要素であるが、現在検討されている高効率な太陽電池材料はガリウム-砒素(GaAs)等の化合物半導体で、資源埋蔵量及び人体への安全性、環境への負荷から考えると、屋外に設置して大量に使用することは現実味がない。これに対し地殻資源埋蔵量が豊富な鉄とシリコンから構成される化合物半導体であるベータ鉄シリサイド(β-FeSi_2)は、30%以上と高い理論効率の太陽電池が作成可能と予測されている。しかも構成元素の鉄とシリコンの分離回収が可能であるというリサイクル性にも富み注目される材料である。申請者はこれまでにβ-FeSi_2について研究を行なってきており、MOCVD法によってSi基板上に高品質の1μm膜厚のエピタキシャル薄膜を作製し、高品質のエピタキシャル薄膜の作製に成功した。本年度は、上記研究成果を受けて太陽電池作成のための基礎特性の把握を行うことを目的とした。その結果、以下の結論を得た。1)β相をエピタキシャル成長させる基板の条件は、格子整合よりむしろイオンが均一な面で構成されていることが重要である事が明らかになった。2)電気伝導度およびその温度依存性は、Fe/Si比や結晶構造(非晶質、多結晶、エピタキシャル成長)に大きく依存せず、安定している事がわかった。3)PL発光に影響を及ぼす重要な因子として、欠陥の関与が予想され、Siの拡散が重要な役割を果たしていることが明らかになった。
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Kensuke Akiyama, Seishiro Ohya, Hiroshi Funakubo: "β-FeSi_2 Thin Film Preparation by ECR Plasma-Enhanced MOCVD"Transactions of Materials Research Society of Japan. 28(3). 805-808 (2003)
Kensuke Akiyama、Seishiro Ohya、Hiroshi Funakubo:“通过 ECR 等离子体增强 MOCVD 制备 β-FeSi_2 薄膜”日本材料研究学会汇刊 28(3) (2003)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Kensuke Akiyama, Takeshi Kimura, Takashi Suemasu, Fumio Hasegawa, Yoshihito Maeda, Hiroshi Funakubo: "Growth of Epitaxial β-FeSi_2 Thin Film on Si(001) by Metal Organic Chemical Vapor Deposition"Jpn.J.Appl.Phys.. (印刷中).
Kensuke Akiyama、Takeshi Kimura、Takashi Suemasu、Fumio Hasekawa、Yoshihito Maeda、Hiroshi Funakubo:“通过金属有机化学气相沉积在 Si(001) 上生长外延 β-FeSi_2 薄膜”Jpn.J.Appl.Phys..(打印)期间)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Kensuke Akiyama, Seishiro Ohya, Hiroshi Funakubo: "Preparation of β-FeSi_2 thin film by metal organic chemical vapor deposition using iron-carbonyl and mono-silane"Thin Solid Films. (印刷中).
Kensuke Akiyama、Seishiro Ohya、Hiroshi Funakubo:“使用羰基铁和甲硅烷通过金属有机化学气相沉积制备 β-FeSi_2 薄膜”固体薄膜(正在出版)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Kensuke Akiyama: "Composition Dependence of Constituent Phase of Fe-Si Thin Film Prepared by MOCVD"Journal of Crystal Growth. 237-239. 1951-1955 (2002)
Kensuke Akiyama:“MOCVD 制备的 Fe-Si 薄膜的组成相的成分依赖性”晶体生长杂志。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
新規蛍石構造圧電体膜の機構解明と材料群開拓
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批准号:24H00375
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$30.95万
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财政年份:2024
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
室温合成可能な新規単純化合物強誘電体群の開拓
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批准号:22K18307
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
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资助金额:$16.56万
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财政年份:2022
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
窒化アルミニウム基エピタキシャル薄膜を用いた強誘電性サイズ効果の解明
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批准号:21H01617
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.23万
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财政年份:2021
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
ピエゾMEMSの信頼性確保を目指した圧電体膜の結晶構造およびドメイン構造評価
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批准号:12F02766
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2012
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
次世代強誘電体メモリ用強誘電体材料の電気的及び物理的特性
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批准号:09F09816
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2009
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
チタン酸ジルコン酸鉛単結晶モデル粒界を用いたナノドーパントの圧電制御機構の解明
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批准号:20047004
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.07万
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财政年份:2008
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
Bi-Zn-Nb-0エピタキシャル膜のチューナビリティー機構解明
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批准号:18656189
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.98万
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财政年份:2006
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
Si上の光-電子融合デバイス集積を目指したβ-FeSi_2エピタキシャル薄膜合成
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批准号:16656202
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2004
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
パルスMOCVD法によるチタン酸ジルコン酸鉛薄膜の析出機構の解明
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批准号:12750596
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2000
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
エピタキシャル成長単結晶薄膜を用いたチタン酸バリウム半導体化機構の解明
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批准号:10750490
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1998
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
in-situ伝導度測定による半導性ZnO薄膜成膜初期の成長機構の解明
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批准号:08750779
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1996
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
高度に組成・結晶構造制御したPLZTエピタキシャル薄膜のMOCVD法による合成
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批准号:03855156
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1991
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
海外基金