チタン酸ジルコン酸鉛単結晶モデル粒界を用いたナノドーパントの圧電制御機構の解明
チタン酸ジルコン酸鉛単結晶モデル粒界を用いたナノドーパントの圧電制御機構の解明
批准号:
20047004
负责人:
舟窪 浩
金额:
$3.07万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2008
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2008 至 2009
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本研究の目的は、最も重要な圧電体でありながら、これまで単結晶合成の難しさから多結晶体での研究に限られていたPb(Zr, Ti)O_3[PZT]について、申請者が世界で初めて合成に成功したPZT単結晶を用いた人工モデル粒界を作製し、ナノドーパントの圧電特性に及ぼす効果をin-situで解明することである。MOCVD法を用いて、Zr/(Zr+Ti)比を変化させて作製した分極軸に単一配向した正方晶のエピタキシャル膜を作製した。その結果以下の結論を得た。1. Zr/(Zr+Ti)比にかかわらず歪みの少ない膜が作製できることが明らかになった。2. 得られた膜の強誘電性を評価したところ、Zr/(Zr+Ti)比の減少に伴う自発分極値の低下が観察された。3. Spring8での電界下その場観察の結果、膜の圧電性はZr/(Zr+Ti)比の減少に伴って減少し、その変化は、理論から予測されたものと良く一致した。4. ラマン分光測定によって、初めてソフトモードと自発分極値の間に直線関係があることが実験的に確認された。5. 得られた膜の自発分極値とソフトモードの関係は、温度を変えて測定したデータでも良く一致しており、本研究で得られた結果が広い範囲に適用できる可能性を明らかにした。
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分極軸配向正方晶Pb(Zr, Ti)O_3厚膜の作製と評価
偏光轴取向四方Pb(Zr,Ti)O_3厚膜的制备与评价
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
マテリアルインテグレーション 22(9, 10)
影响因子:
--
作者:
[舟窪浩, 藤澤隆志, 宇津木覚, 山田智明, 石河睦生]
通讯作者:
石河睦生
In-situ Observation of Piezoresponse and Electrical Property by Time-Resolved Synchrotron X-Ray Diffraction
通过时间分辨同步加速器 X 射线衍射原位观察压电响应和电性能
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroshi Funakubo, Shitaro Yasui, Takashi Fujsawa, Takafumi Kamo, Mitsumasa Nakajima, Satoru Utsugi, Tomoaki Yamada, Osami Sakata]
通讯作者:
Osami Sakata
CaF_2基板上に作製したPbTiO_3膜で観察される巨大強誘電性
CaF_2 衬底上制备的 PbTiO_3 薄膜观察到巨铁电体
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[舟窪浩, 宇津木覚, 藤澤隆志, 安井伸太郎, 石河睦生, 松島正明, 山田智明, 森岡仁]
通讯作者:
森岡仁
Growth of Polar-axis-oriented Epitaxial Pb(Zr, Ti)O_3 Thick Films Grown on(100)CaF_2 Substrates
(100)CaF_2衬底上极轴取向外延Pb(Zr,Ti)O_3厚膜的生长
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroshi Funakubo, Takashi Fujisawa, Hiroshi Nakaki, Satoru Utsugi, Rikyu Ikariyama, Hitoshi Morioka, Mutsuo Ishikawa, Tomoaki Yamada]
通讯作者:
Tomoaki Yamada
エピタキシャルPbTiO_3膜のドメイン構造と電気特性の膜厚依存
外延PbTiO_3薄膜的畴结构和电性能的厚度依赖性
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[宇津木覚, 藤澤隆志, 安井伸太郎, 森岡仁, 石河睦生, 山田智明, 舟窪浩]
通讯作者:
舟窪浩
共 33 条
新規蛍石構造圧電体膜の機構解明と材料群開拓
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批准号:24H00375
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$30.95万
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财政年份:2024
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
室温合成可能な新規単純化合物強誘電体群の開拓
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批准号:22K18307
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
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资助金额:$16.56万
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财政年份:2022
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
窒化アルミニウム基エピタキシャル薄膜を用いた強誘電性サイズ効果の解明
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批准号:21H01617
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.23万
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财政年份:2021
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
ピエゾMEMSの信頼性確保を目指した圧電体膜の結晶構造およびドメイン構造評価
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批准号:12F02766
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2012
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
次世代強誘電体メモリ用強誘電体材料の電気的及び物理的特性
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批准号:09F09816
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2009
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
Bi-Zn-Nb-0エピタキシャル膜のチューナビリティー機構解明
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批准号:18656189
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.98万
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财政年份:2006
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
Si上の光-電子融合デバイス集積を目指したβ-FeSi_2エピタキシャル薄膜合成
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批准号:16656202
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2004
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
環境低負荷な鉄とシリコンからなるベータ鉄シリサイド半導体を用いた太陽電池の検討
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批准号:14655236
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.92万
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财政年份:2002
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
パルスMOCVD法によるチタン酸ジルコン酸鉛薄膜の析出機構の解明
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批准号:12750596
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2000
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
エピタキシャル成長単結晶薄膜を用いたチタン酸バリウム半導体化機構の解明
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批准号:10750490
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1998
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
in-situ伝導度測定による半導性ZnO薄膜成膜初期の成長機構の解明
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批准号:08750779
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1996
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
高度に組成・結晶構造制御したPLZTエピタキシャル薄膜のMOCVD法による合成
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批准号:03855156
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1991
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
海外基金