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水素イオン注入による太陽電池用アモルファスーシリコンの製作

水素イオン注入による太陽電池用アモルファスーシリコンの製作
氢离子注入法生产太阳能电池用非晶硅
批准号：
X00080----346052
负责人：
古川 静二郎
金额：
$4.8万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份：
1978
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1978 至 1979
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-X00080----346052/
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ヘテロ成長におけるローテーショナル・ツイン生成機構の解明とその制御
  • 批准号：
    04227213
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $0.77万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    古川 静二郎
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
ヘテロ成長におけるロ-テ-ショナル・ツイン生成機構の解明とその制御
  • 批准号：
    03243213
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $1.54万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    古川 静二郎
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
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  • 项目类别：
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  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    古川 静二郎
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
無ひずみシリコン系ヘテロ接合の新しい作製手法とその超高速素子への応用
  • 批准号：
    02452075
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $4.8万
  • 财政年份：
    1990
  • 负责人：
    古川 静二郎
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology