低速電子エピタキシャル成長膜の磁気量子サイズ効果の研究

慢电子外延生长薄膜中磁量子尺寸效应的研究

• 批准号: 07640493
• 负责人: 溝口 正
• 金额: $ 1.41万
• 依托单位: Gakushuin University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-07640493/
• 关键词: エピタキシャル成長; 磁気量子サイズ効果; 低速電子線

1.超高真空チャンバーの製作と蒸着源の製作これまで使用してきたチャンバーは到達真空度が1×10^<-9>Torrとあまりよい真空度を得られなかったため、本実験を行うにあたり新たにチャンバーを製作し、2×10^<-10>Torrの超高真空を得た。同時にこれまで使用していたEガンにかえて、小型の蒸着源も製作した。この蒸着源でFe、Auの蒸着に対して、蒸着速度約0.1Å/秒で安定した製膜が可能であることを確認した。2.低速電子線用の電子銃の製作20eV以下の低速の電子を平行性よく試料に照射するための電子銃を設計製作し、レンズパラメータの決定を行うと同時にその性能評価をファラデーカップを用いて行った。3eV以上で透過効率がほぼ一定の電子銃の製作に成功したことが確かめられた。3.量子サイズ効果の測定MgO上にバッファー層をはさんでFe (001)面をエピタキシャル成長させ、その上にAu (001)面を成長させ、Au膜のいろいろな厚さに対して電子線の吸収率を電子線の運動エネルギーを変えながら測定しているが、顕著な量子サイズ効果は今の所示されていない。原因について現在検討中である。

1. Ultra-high vacuum production and evaporation source production, use, reach vacuum degree 1×10^ Torr, this line, new vacuum <-9>production, 2×10^<-10>Torr ultra-high vacuum At the same time, the use of small steam source production The evaporation rate of Fe and Au is about 0.1 μ m/s. 2. Production of electron gun for low-speed electron line The parallelism of electron gun for low-speed electron line below 20eV The electron gun design, production and determination of electron gun for low-speed electron line and the performance evaluation of electron gun for low-speed electron line 3 eV or more, the transmission rate is higher, and the electron emission rate is higher. 3. The measurement of the quantum effect of MgO on the Fe (001) plane, Au (001) on the Au film, the absorption rate of the electron beam, the motion of the electron beam, etc. The reason for this is that we are now discussing it.