イオンビームスパッタ法によるアモルファス薄膜の作製と, キャラクタリゼーション

离子束溅射非晶薄膜的制备及表征

基本信息

  • 批准号:
    56211045
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.56万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Special Project Research
  • 财政年份:
    1981
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1981 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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  • 发表时间:
  • 期刊:
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  • 发表时间:
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  • 期刊:
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  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
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    米谷 衣代;高林 純示;溝口正;浅井智広;原田二朗;佐賀佳央;溝口正;原田 二朗;溝口 正;溝口 正;溝口 正;柿谷 吉則;和田 啓;宮本 良;和田 啓;溝口 正;原田二朗;浅井智広;渡部和幸;吉冨太一;駒田淳;伊佐治恵;原田二朗;浅井智広;Jiro Harada;Syunsuke Takahashi;原田二朗;Syunsuke Takahashi;伊佐治恵;大岡宏造;原田 二朗;宮郷 正平;浅井 智広;高橋 俊介;伊佐治 恵;原田 二朗;宮郷 正平;原田 二朗;伊佐治 恵;原田 二朗;宮郷 正平;佐賀 佳央;原田 二朗;溝口 正;伊佐治 恵;原田 二朗;宮郷 正平;溝口 正
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知道了