高密度電子流による金属ファインインジェクション技術の創出と超長ワイヤ創製への展開
利用高密度电子流的金属精细注射技术的创建及其超长线材的开发
基本信息
- 批准号:17H06516
- 负责人:
- 金额:$ 1.91万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
- 财政年份:2017
- 资助国家:日本
- 起止时间:2017-08-25 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
平成29年度は、高密度電子流による原子拡散を活用した金属ファインインジェクション技術の創出と単結晶金属超長ファインワイヤ創製への展開を目指し、本研究課題の核となる射出機構の研究開発を遂行し、以下の研究実績を得た。1. 高密度電子流印加のための閉回路設計と射出機構の試作 原子拡散を引き起こす電子流印加のための閉回路を実現した。汎用金属ニードルに内径140μm円筒硼珪酸ガラスキャピラリを組み込み、電気炉内にて溶融したSnをステンレスシリンジを用いて加圧充填することで、キャピラリ内へ隙間なく導通部を形成することに成功した。2. 微細孔の作製 金属材料射出のための微細孔作製を実施した。従来、微細孔作製に用いられていた集束イオンビーム装置ではなく、反応性イオンエッチング装置によりSi基板上に多数の微細孔を形成するメッシュ構造を導入した。これは高効率に大量のファインマテリアルを創製できる構造であり、Siメッシュを項目1のガラスキャピラリ先端部にカーボンペーストを用いて固定することで、射出機構を試作した。3. 電子流印加による臨界射出圧力の検討 項目1、2の工程を経て試作した射出機構を用いて、電流印加によるファインマテリアル創製実験を試みた。射出機構においては溶融金属の表面張力や界面抵抗による射出抵抗から臨界射出圧力が存在することが推察されていた。創製実験において印加電流量を変化させることにより、蓄積原子量およびそれによって決定される内圧力を制御することで、臨界射出圧力の存在を実験的に確認することに成功した。さらに電子流印加のみでマイクロスフィアの創製に成功したことから、電子流印加による金属ファインマテリアルの射出機構が実現可能であることを実験的に示した。
In 2010, we focused on the development of metal foil technology that utilizes atomic dispersion in high-density electron flows and the creation of ultra-long foil wires for single crystalline metals. We also carried out research and development on the core injection mechanism of this research topic, and obtained the following research results. 1. Design of closed-loop for high density electron flow and realization of closed-loop for emission mechanism The inner diameter of 140μm cylinder boron nitride is melted in the furnace, and the inner gap is filled with high pressure. 2. Micro-hole fabrication metal material ejection and micro-hole fabrication For the purpose of micro-hole fabrication, a plurality of micro-holes are formed on a silicon substrate by a cluster device. A large number of high-efficiency, high-efficiency, high- 3. The critical emission pressure of the electron flow is discussed in the project 1 and the project 2. The emission mechanism is tested in the project 2. The surface tension and interface resistance of molten metal in the injection mechanism are investigated. The internal pressure control system was successfully established by the determination of the amount of accumulated current and the existence of critical emission pressure. The electron flow is the result of the successful creation of the electron flow and the metal injection mechanism.
项目成果
期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
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