Application of Bottom-Up Selective Growth Technology to Hybrid Bonding
自下而上选择性生长技术在混合键合中的应用
基本信息
- 批准号:21K20426
- 负责人:
- 金额:$ 2万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
- 财政年份:2021
- 资助国家:日本
- 起止时间:2021-08-30 至 2023-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Electrodeposition of Indium for Low Temperature 3D Stacking
用于低温 3D 堆叠的铟电沉积
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Fumihiro Inoue;Kimoon Park;Jaber Derakhshandeh;Bongyoung Yoo
- 通讯作者:Bongyoung Yoo
Area-Selective Electroless Deposition of Cu for Hybrid Bonding
用于混合键合的区域选择性化学镀铜
- DOI:10.1109/led.2021.3124960
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:4.9
- 作者:Inoue Fumihiro;Iacovo Serena;El-Mekki Zaid;Kim Soon-Wook;Struyf Herbert;Beyne Eric
- 通讯作者:Beyne Eric
Application of the surface planer process to Cu pillars and wafer support tape for high-coplanarity wafer-level packaging
- DOI:10.1007/s00170-021-08622-x
- 发表时间:2022-01
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:F. Inoue;A. Phommahaxay;Yohei Gokita;Berthold Möller;E. Beyne
- 通讯作者:F. Inoue;A. Phommahaxay;Yohei Gokita;Berthold Möller;E. Beyne
A study on IMC morphology and integration flow for low temperature and high throughput TCB down to pitch microbumps
低温高通量TCB小间距微凸块IMC形貌和集成流程研究
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:J. Derakhshandeh;C. Gerets;F. Inoue;G. Capuz;V. Cherman;M. Lofrano;L. Hou;T. Cochet;I. De Preter;T. Webers;P. Bex;G. Jamieson;M. Maehara;E. Shafahian;J. Bertheau;E. Beyne;D. Charles La Tulipe;G. Beyer;G. Van der Plas;A. Miller
- 通讯作者:A. Miller
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