Application of Bottom-Up Selective Growth Technology to Hybrid Bonding

自下而上选择性生长技术在混合键合中的应用

基本信息

  • 批准号:
    21K20426
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
  • 财政年份:
    2021
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2021-08-30 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Electrodeposition of Indium for Low Temperature 3D Stacking
用于低温 3D 堆叠的铟电沉积
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Fumihiro Inoue;Kimoon Park;Jaber Derakhshandeh;Bongyoung Yoo
  • 通讯作者:
    Bongyoung Yoo
Area-Selective Electroless Deposition of Cu for Hybrid Bonding
用于混合键合的区域选择性化学镀铜
  • DOI:
    10.1109/led.2021.3124960
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.9
  • 作者:
    Inoue Fumihiro;Iacovo Serena;El-Mekki Zaid;Kim Soon-Wook;Struyf Herbert;Beyne Eric
  • 通讯作者:
    Beyne Eric
Application of the surface planer process to Cu pillars and wafer support tape for high-coplanarity wafer-level packaging
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    J. Derakhshandeh;C. Gerets;F. Inoue;G. Capuz;V. Cherman;M. Lofrano;L. Hou;T. Cochet;I. De Preter;T. Webers;P. Bex;G. Jamieson;M. Maehara;E. Shafahian;J. Bertheau;E. Beyne;D. Charles La Tulipe;G. Beyer;G. Van der Plas;A. Miller
  • 通讯作者:
    A. Miller
imec(ベルギー)
比利时imec
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  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
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  • 通讯作者:
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Inoue Fumihiro其他文献

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