Construction of carbon nanowall sheet edge electronics and differentiation induction control of single cell
Construction of carbon nanowall sheet edge electronics and differentiation induction control of single cell
碳纳米墙片边缘电子器件的构建及单细胞分化诱导控制
批准号：
15H02032
负责人：
Hori Masaru
金额：
$24.54万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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プラズマ励起化学気相堆積法で成長したア モルファスカーボン膜の吸収端近傍X線吸収微細構造における高周波電力依存性
等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜吸收边附近 X 射线吸收精细结构的高频功率依赖性
等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜吸收边附近 X 射线吸收精细结构的高频功率依赖性
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[杉浦啓嗣, 賈凌雲, 佐藤俊一, 近藤博基, 石川健治, 竹田圭吾, 関根誠, 堀勝]
通讯作者：
堀勝
Effects of radicals and ions on electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
自由基和离子对等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜电子性能的影响
自由基和离子对等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜电子性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Sugiura, L. Jia, H. Kondo, K. Ishikawa, K. Takeda, M. Sekine, M. Hori]
通讯作者：
M. Hori
Wavelength dependence for silicon-wafer temperature measurement by autocorrelationtype frequency-domain low-coherence interferometry
自相关型频域低相干干涉测量硅片温度的波长依赖性
自相关型频域低相干干涉测量硅片温度的波长依赖性
DOI：
10.1364/ao.54.007088
发表时间：
2015
期刊：
Applied Optics
影响因子：
1.9
作者：
[T. Tsutsumi, T. Ohta, K. Takeda, M. Ito, M. Hori]
通讯作者：
M. Hori
Study on crystallographic and electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜的晶体学和电子性能研究
等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜的晶体学和电子性能研究
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[L. Jia, H. Sugiura, H. Kondo, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori]
通讯作者：
M. Hori
Influence of ion bombardment on electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
离子轰击对等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜电子性能的影响
离子轰击对等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜电子性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Sugiura, L. Jia , H. Kondo, K. Ishikawa, K. Takeda, M Sekine, M. Hori]
通讯作者：
M. Hori
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