Construction of carbon nanowall sheet edge electronics and differentiation induction control of single cell

碳纳米墙片边缘电子器件的构建及单细胞分化诱导控制

基本信息

批准号：
15H02032
负责人：
Hori Masaru
金额：
$ 24.54万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-15H02032/
关键词：
プラズマカーボンナノウォールグラフェンエッジ分化誘導骨芽細胞細胞外カルシウム細胞内カルシウム骨化周波数壁密度プラズマ加工細胞分化再生医療電気刺激周波数依存性ヒト由来骨芽細胞様細胞ノジュール

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（38）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Wavelength dependence for silicon-wafer temperature measurement by autocorrelationtype frequency-domain low-coherence interferometry

自相关型频域低相干干涉测量硅片温度的波长依赖性

DOI：
10.1364/ao.54.007088
发表时间：
2015
期刊：
Applied Optics
影响因子：
1.9
作者：
T. Tsutsumi;T. Ohta;K. Takeda;M. Ito;M. Hori
通讯作者：
M. Hori

Study on crystallographic and electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition

等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜的晶体学和电子性能研究

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
L. Jia;H. Sugiura;H. Kondo;K. Takeda;K. Ishikawa;M. Sekine;M. Hori
通讯作者：
M. Hori

プラズマ励起化学気相堆積法で成長したアモルファスカーボン膜の吸収端近傍X線吸収微細構造における高周波電力依存性

等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜吸收边附近 X 射线吸收精细结构的高频功率依赖性

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
杉浦啓嗣;賈凌雲;佐藤俊一;近藤博基;石川健治;竹田圭吾;関根誠;堀勝
通讯作者：
堀勝

Effects of radicals and ions on electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition

自由基和离子对等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜电子性能的影响

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
H. Sugiura;L. Jia;H. Kondo;K. Ishikawa;K. Takeda;M. Sekine;M. Hori
通讯作者：
M. Hori

Influence of ion bombardment on electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition

离子轰击对等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜电子性能的影响

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
H. Sugiura;L. Jia ;H. Kondo;K. Ishikawa;K. Takeda;M Sekine;M. Hori
通讯作者：
M. Hori

DOI：
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作者：
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Hori Masaru其他文献

Enhancement of ethanol production and cell growth in budding yeast by direct irradiation of low-temperature plasma

通过低温等离子体直接照射增强芽殖酵母的乙醇产量和细胞生长

DOI：
10.35848/1347-4065/ac2037
发表时间：
2021
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Tanaka Hiromasa;Matsumura Shogo;Ishikawa Kenji;Hashizume Hiroshi;Ito Masafumi;Nakamura Kae;Kajiyama Hiroaki;Kikkawa Fumitaka;Ito Mikako;Ohno Kinji;Okazaki Yasumasa;Toyokuni Shinya;Mizuno Masaaki;Hori Masaru
通讯作者：
Hori Masaru

Dissociation channels of c-C4F8 to C2F4 in reactive plasma

反应等离子体中 c-C4F8 到 C2F4 的解离通道

DOI：
10.35848/1347-4065/ac895e
发表时间：
2022
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Hayashi Toshio;Ishikawa Kenji;Iwayama Hiroshi;Sekine Makoto;Hori Masaru
通讯作者：
Hori Masaru

Electronic properties and primarily dissociation channels of fluoroethane compounds

氟乙烷化合物的电子特性和主要解离通道

DOI：
10.7567/1347-4065/ab09ca
发表时间：
2019
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Hayashi Toshio;Ishikawa Kenji;Sekine Makoto;Hori Masaru
通讯作者：
Hori Masaru

Rapid thermal-cyclic atomic-layer etching of titanium nitride in CHF3/O2 downstream plasma

CHF3/O2 下游等离子体中氮化钛的快速热循环原子层蚀刻

DOI：
10.1088/1361-6463/ab3cf3
发表时间：
2019
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
0
作者：
Shinoda Kazunori;Miyoshi Nobuya;Kobayashi Hiroyuki;Izawa Masaru;Ishikawa Kenji;Hori Masaru
通讯作者：
Hori Masaru

Plasma-Assisted Priming: Improved Germination and Seedling Performance of Papaya

等离子体辅助引发：改善木瓜的发芽和幼苗性能

DOI：
10.17576/jsm-2023-5202-21
发表时间：
2023
期刊：
Sains Malaysiana
影响因子：
0.8
作者：
Xi Deng-Ke;Yap Seong Ling;Naresh Kumar Nitturi;Toh Chian Cheng;Ishikawa Kenji;Hori Masaru
通讯作者：
Hori Masaru