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Growth of free-standing two-dimensional atomic sheet by nano-plasma processing and its applications

Growth of free-standing two-dimensional atomic sheet by nano-plasma processing and its applications
纳米等离子体生长自支撑二维原子片及其应用
批准号：
23740405
负责人：
KATO Toshiaki
金额：
$2.91万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2011
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2011 至 2012
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23740405/
关键词：
単層カーボンナノウォール垂直配向グラフェンプラズマCVDキャリア移動度

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Direct growth of graphene on an insulating substrate is realized by rapid-heating plasma CVD (RH-PCVD), which is originally developed by our group. For the first time, integration of graphene nanoribbons, quasi-one-dimensional structure of graphene, is also realized using Ni nanobar as catalysts for their growth. It is also revealed that the graphene nanoribbon devices show very high transistor performance (on/off ratio > 10,000).
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会议论文
Direct Growth of High-Quality Mono-Layer Graphene on Insulating Substrate by Advanced Plasma CVD
采用先进等离子体 CVD 在绝缘基板上直接生长高质量单层石墨烯
DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [Setiawan, N., Osanai, Y., Nakano, N., Adachi, T., Yonemura, K., et al, 吉岡　七緒, Maki Okube and Satoshi Sasaki, Katsuo Tsukamoto, T. Kato]
通讯作者： T. Kato
Plasma processing of nanomaterials
DOI： 10.1201/b11473
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [R. M. Sankaran]
通讯作者： R. M. Sankaran
Effects of Catalysts Types on the Narrow-Chirality Distributed Single-Walled Carbon Nanotube Growth by Plasma CVD
催化剂类型对等离子体 CVD 窄手性分布单壁碳纳米管生长的影响
DOI： --
发表时间： 2011
期刊：
影响因子： --
作者： [伊藤 陽介, 大西 宏征, 鎌田 啓吾, 小林 哲生, 三木康稔，天野祐介，高橋拓也，佐々木徹，菊池崇志，原田信弘, T. Sato, K. Murakoshi]
通讯作者： K. Murakoshi
グラフェン構造体及びそれを用いた半導体装置並びにそれらの製造方法
石墨烯结构、使用其的半导体器件及其制造方法
DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
共 27 条
    Development of Room-Temperature Stable and Flexible Single Photon Source with Controllable Heavy-ion Doping to Atomically Thin Layered Materials
    • 批准号：
      16K13707
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.41万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      KATO Toshiaki
    • 依托单位：
      Tohoku University
    Fundamental Study for Atomic Engineering of Nanocarbon Materials with Advanced Plasma Processing
    • 批准号：
      16H03892
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $10.73万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      KATO Toshiaki
    • 依托单位：
      Tohoku University
    A Longitudinal Study on the Development and Formation of Structures of Social Cognition in Junior High School Students
    • 批准号：
      20530823
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.66万
    • 财政年份：
      2008
    • 负责人：
      KATO Toshiaki
    • 依托单位：
      Shimane University
    Electrical transport property control of single-walled carbon nanotubes by time-programmed plasma CVD
    • 批准号：
      20840003
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (Start-up)
    • 资助金额：
      $2.1万
    • 财政年份：
      2008
    • 负责人：
      KATO Toshiaki
    • 依托单位：
      Tohoku University
    海外基金