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新規含ケイ素高分子材料の分子設計と膜特性の発現

新型含硅高分子材料的分子设计及膜性能开发

基本信息

批准号：
04205123
负责人：
加藤政雄
金额：
$ 1.28万
依托单位：
Tokyo University of Science
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1992
资助国家：
日本
起止时间：
1992 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究は我々が見いだしてきた新規反応をベースとして新しい含ケイ素高分子材料を合成し、その膜特性に関して検討したものである。我々の見い出したリチウムジイソプロピルアミド(LDA)による4-メチルスチレン(MST)のリチオ化反応は重合官能基を有するカルボアニオン(VBL)を与える。このVBLは新規モノマーあるいはオリゴマー合成の中間体として有用であった。たとえばVBLにクロロシラン化合物を加えると、一段で2つのシリル化が起こり、複数のシリル基を有するモノマーが合成できた。また2つのクロロシリル基を有する化合物を用いると、アニオン重縮合反応が進行し、反応性ビニル基を側鎖に有する含ケイ素オリゴマーが生成した。またこの反応はMSTの代わりにアリルシランを用いても進み、主鎖に反応性オレフィンを有する含ケイ素オリゴマーIが生成した。LDAによるリチオ化反応は4-アリルスチレンあるいはα,p-ジメチルスチレンなどのモノマーに拡張された。これらのリチオ化およびシリル化反応により、複数のアルキルシリル基を有するアリルスチレン誘導体(II)およびα-メチルスチレン誘導体(III)が合成された。IIはアリル基を有する含ケイ素モノマーであるものの、ラジカル重合により容易に高重合体を与えた。またIIIはアニオン重合により単分散のポリマーを与えた。オリゴマーIはそれ自身では膜にならないものの、多項膜に担持させ、ガス透過能を求めたところ、高いケイ素含有量に基づく、酸素選択透過特性を有することがわかった(PO_2/PN_2=4.4)。ポリ(II)もまた高い酸素透過選択性を示した。ポリ(III)は平衡重合能に基づく解重合が期待できるため、薄膜の電子線レジスト特性を検討したところ、ポジ型の挙動を示した。

In this study, we investigated the synthesis and membrane properties of novel polymer materials containing cellulose. We also found that the 4-mer (MST) and 4-mer (VBL) groups of LDA and MST were identical to each other. VBL is a useful intermediate. VBL can be used to synthesize compounds. 2. A compound containing a hydroxyl group can be produced by condensation reaction, and a hydroxyl group can be produced by condensation reaction. For example, if you want to change the color of the image, you can change the color of the image. LDA is a 4-way street. It's a 4-way street. The synthesis of the compound inducer (II) and the α-isomer inducer (III) was carried out. II. High quality products The three of them are For example, the transmission properties of the polyphase film, the base film, and the acid film are determined by PO_2/PN_2 = 4.4. (II) High acidity is indicated by selectivity. (III) The electron beam characteristics of thin films are discussed in detail.