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新規含ケイ素高分子材料の分子設計と膜特性の発現

新型含硅高分子材料的分子设计及膜性能开发

基本信息

批准号：
03205111
负责人：
加藤政雄
金额：
$ 1.28万
依托单位：
Tokyo University of Science
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1991
资助国家：
日本
起止时间：
1991 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究の目的は、われわれが見いだした新しい反応を利用することにより、まったく新しい含ケイ素高分子材料を合成するとともに、その薄膜材料としての特性を追究するところにある.本年度は昨年度に得られた新規含ケイ素モノマ-を基に、1)ガス透過用材料としての評価および2)レジスト用材料としての評価の2点に関して追究した.われわれの見いだした反応によって得られた新規モノマ-(4ービス(トリメチルシリル)メチルスチレン;BSMS)をベ-スとした高分子膜は、通常のビニルポリマ-に比べてガス透過能が高く、特に酸素透過係数は5×10^<-9>cm^3(STP)・cm・cm^<-2>・s^<-1>・cmHg^<-1>に達した。種々のポリマ-を合成してそのガス透過能との相関に関して検討した結果、このポリマ-ではケイ素含有量が酸素透過性に大きく関与していることを見いだした.またBSMSのアクリル酸エステルとの共重合体においては10^<-9>台の透過性を維持しつつ、酸素と窒素の透過選択性が4.6倍程度と高く、これは酸素富化膜として高い可能性があると考えられる。BSMSはブチルリチウムを開始剤とすることにより、リビング的にアニオン重合が進行し、分子量分布の狭いポリマ-が得られた。このポリマ-を電子線レジストとして評価したところ、電子線強度にしたがって不溶化するネガ型の挙動を示した。感度特性曲線により解像度の目安である∂値を測定したところ、∂=8.1といままでにない非常に高い値を示すことがわかった。これは分子量の変化にともなう溶解度の急激な変化に基づくものと考えられる.このように高い解像度を有するレジスト材料は、より微細なレジストパタ-ンを作るのに有用であり、興味深い.

The purpose of this study is to investigate the properties of new polymer materials. This year and last year, new regulations were issued including: 1) evaluation of materials used for transportation and 2) evaluation of materials used for transportation. The transmission energy of polymer film is higher than that of ordinary polymer film, and the transmission coefficient of special acid is 5×10^<-9>cm^3(STP)·cm^<-2>·s^<-1>·cmHg^<-1>. The results of the study showed that the content of the compound was higher than that of the acid. The permeability of the complex of BSMS was maintained at 10 μ m, and the permeability of the acid and the pigment was <-9>4.6 times higher than that of the complex. The molecular weight distribution of BSMS is narrow. The electron beam intensity is determined by the electron beam intensity. The sensitivity curve shows that the resolution is very high. The change of molecular weight and solubility are the main factors affecting the solubility. The high resolution material is very useful and interesting.