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アカパンカビのDNA除去修復機構の解明

粗糙脉孢菌 DNA 去除和修复机制的阐明

基本信息

批准号：
09269203
负责人：
井上弘一
金额：
$ 1.41万
依托单位：
Saitama University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1997
资助国家：
日本
起止时间：
1997 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

アカパンカビから酵母の修復遺伝子RAD1とRAD2のホモログ遺伝子をそれぞれ縮重PCR法によってクローニングし、そのシークエンスの決定を行った。アカパンカビのRAD1ホモログ遺伝子は、892アミノ酸からなる分子量、約100kDのタンパク質をコードしており、出芽酵母のRAD1がコードしているタンパク質との間で34%の高いホモロジーを示した。RFLPによるRAD1遺伝子のマッピングを行ったところ、この遺伝子は第一連鎖群左腕のnit-2遺伝子の近傍に位置することが明らかになった。この位置にはすでにDNA修復遺伝子としてmus-38遺伝子があり、この突然変異株の変異原感受性をRAD1ホモログ遺伝子が相補したことから、Rad1ホモログは、mus-38遺伝子によってコードされていることが明らかになった。RIPによる遺伝子不活化により得られた突然変異株は、mus-38突然変異株と同様に、紫外線、4NQO、マイトマイシンCなどに高い感受性を示した。抗チミン二量体抗体を用いての、紫外線によるDNA上のダイマーの測定を行ったところ、mus-38株はほとんど野生株と変わらない効率でダイマーを除去しているかとがわかった。すでに、紫外線損傷の修復欠損株として知られているmus-18株との間で二重変異株mus-18,mus-38株を作成し、その紫外線に対する感受性を調べたところ、それぞれの親株よりはるかに高い感受性を示した。また、この株では、チミン二量体の除去がまるでできないことも明らかになった。RAD1ホモログ遺伝子を単離したのと同様の方法でRAD2ホモログの遺伝子をアカパンカビからクローニングした。このクローン化したDNAを用いてRFLPマッピングを行ったところ、この遺伝子は第一連鎖群左腕のテロメア近傍に位置することがわかった。新しい遺伝子であったため、これをmus-40と命名した。RIPによりこの遺伝子の欠損株を作成し、変異原感受性を調べたところ、弱い紫外線感受性とかなりの4NQO感受性を示した。mus-18との二重変異株は著しい紫外線感受性を示すと同時に、チミン二量体の除去はまるでできなかった。mus-38,mus-40の二重変異株は、親株と同様の紫外線感受性を示した。以上の結果から、アカパンカビにはmus-18とは異なる紫外線損傷の除去修復系が存在すること、その修復系にはmus-38とmus-40が含まれることが明らかになった。

The determination of the repair gene RAD1 and RAD2 of yeast by PCR was carried out. The molecular weight of the budding yeast RAD1 is 892 kD. The molecular weight of the budding yeast RAD1 is about 100kD. RFLP analysis showed that the locus of RAD1 gene was close to the locus of nit-2 gene. The position of the DNA repair gene is opposite to that of the mus-38 gene, and the sensitivity of the mutant gene to RAD1 gene is opposite to that of the mus-38 gene. Rip is the most sensitive strain to UV, 4NQO and C. Anti-virus antibody detection by UV light The sensitivity of mus-18 and mus-38 to UV damage was adjusted and the sensitivity of their parents to UV damage was increased. Ma ta, this plant is, the removal of the two components of. RAD1 is the same way as RAD2 is the same way as RAD2. The first linkage group was identified by RFLP. The new name is RIP is the most sensitive to UV radiation and the most sensitive to 4NQO radiation. Mus-18 is a double mutant plant with UV sensitivity. mu-38 and mu-40 showed their UV sensitivity. As a result, the repair system for removing UV damage exists in mus-18 and mus-40.