课题基金 / 基金详情

セラミックス加工面の微小き裂評価

セラミックス加工面の微小き裂評価
陶瓷加工表面微裂纹的评估
批准号:
01647504
负责人:
鈴木 俊夫
金额:
$1.34万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1989
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1989 至 --

项目摘要

项目成果

鈴木 俊夫的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
本研究は、セラミックス加工面の耐熱衝撃性、耐熱疲労性を評価する目的で、微小き裂を導入したセラミックス表面にCO_2レ-ザ-照射による局所的熱衝撃を与え、発生するAEを計測することにより、加工面の微小き裂状態を推定することを試みた。実験では表面に微小き裂を導入した窒化珪素試料の表面にCO_2レ-ザ-ビ-ムを照射し、この時AEの信号を計測した。AE計測の結果では、レ-ザ-照射開始直後の短時間を除き、有意なAE信号は検出されなかった。さらに照射時間を延長したが、AE信号を確認できたのは試料温度が上昇し、加工が開始された後であった。これら観測されたAE信号は熱応力や試料の熱分解、蒸発さらには表面に付着した反応生成物の剥離などが原因と考えられる。レ-ザ-照射時の試料内部の温度分布および熱応力分布の時間変化を知るために有限要素法による熱応力連成解析を行ったが、解析結果では、照射1秒後の表面温度は1600°Cに達し、導入したき裂先端では応力がき裂を進展させるのに十分な大きさ達したと予測された。したがって、レ-ザ-照射時のき裂進展に伴って発生するAE信号を検出できなかったの理由として、センサ-の周波数帯域や信号減衰などの測定系問題に加え、熱応力弾塑性解析上の問題も考えられた。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
イオン・電子伝導体-イオン伝導体界面のフェーズフィールドモデル
  • 批准号:
    19017005
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $3.84万
  • 财政年份:
    2007
  • 负责人:
    鈴木 俊夫
  • 依托单位:
イオンフラックス下におけるイオン・電子伝導体-イオン伝導体界面の安定性解析
  • 批准号:
    17041002
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $1.98万
  • 财政年份:
    2005
  • 负责人:
    鈴木 俊夫
  • 依托单位:
不規則で大きな場の変動による局所不均一凝固組織形成の解明
  • 批准号:
    17656244
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.11万
  • 财政年份:
    2005
  • 负责人:
    鈴木 俊夫
  • 依托单位:
鉄および鉄基合金の固液界面エネルギー測定
  • 批准号:
    14655279
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.05万
  • 财政年份:
    2002
  • 负责人:
    鈴木 俊夫
  • 依托单位:
海外基金