軟X線光学の基礎

软 X 射线光学基础知识

基本信息

  • 批准号:
    02233102
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 33.34万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1989
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1989 至 1991
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究は40eV〜1KeVの軟X線に対し,(1)高効率多層膜光学素子の開発,(2)その基礎となる超薄膜状態における各種物質の光学定数の決定,(3)光学素子の耐熱性の研究,(4)高効率偏光素子の開発とその応用を目的とする.そのため本年度は主として,(1)偏光解析を用いて蒸着膜が初期過程で島状構造から連続膜に移る臨界膜厚の決定,(2)同一薄膜試料について反射率と全光電子収率の測定デ-タから得られる光学定数の比較,(3)レ-ザ-光の反射を利用した光学素子表面形状モニタ-の製作,及び軟X線多層膜のアニ-リングテスト,(4)40ー80eV用に3回反射型偏光子を,また高エネルギ-帯域用に2回反射型多層膜偏光子の製作を行なった.主たる成果を次に記す.(1)BK7ガラス基板上にイオンビ-ムスパッタ-で蒸着したC,Si,Ni,Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,Ag,W,Re及びAuの12種類の蒸着膜について臨界膜厚を決定した.(2)PtとRh薄膜について軟X線反射率と全光電子収率のデ-タから得られた光学定数は70eVー900eVの範囲でよく一致することから,両方法が光学定数を決定する方法として信頼性の高いことが確かめられた.(3)レ-ザ-ビ-ム表面形状モニタ-の性能評価を行ない,放射光ビ-ムラインに組み込まれた光学素子の表面形状測定に十分な性能を有することを確認した.また,Mo/SiやRu/Si多層膜のアニ-ルテストからイオンビ-ムスパッタで作製した多層膜はマグネトロンスパッタのものより熱的安定性が高いことが分かった.(4)金コ-トした3回反射型偏光子を用いてAuとBaF_2の光学定数を40ー80eVの範囲で偏光解析的手法で決定し,この方法が有効であることを確認した.また,2回反射型多層膜偏光子の性能評価を放射光を用いて行い,透過率は80ー120eVの範囲で5%以上あり,最大で30%を示し,偏光能は99.5%以上と極めて高いことを確認した.
This study focuses on the following aspects: (1) development of optical elements in high efficiency multilayer films;(2) determination of optical constants of various substances in the basic and ultra-thin film state;(3) study of heat resistance of optical elements;(4) development and application of optical elements in high efficiency polarizers. This year, the main topics are: (1) determination of critical film thickness during the initial process of evaporation of thin films with island-like structure,(2) measurement of reflectance and total photoelectron reflectance of the same thin film sample,(3) fabrication of optical element surface shape using light-reflection, and determination of critical film thickness of soft X-ray multilayer films.(4) Fabrication of a 3-retroreflective multilayer polarizer for 40 - 80eV and a 2-retroreflective multilayer polarizer for high-bandwidth applications. The main achievement is recorded. (1) The critical film thickness of 12 kinds of evaporated films of C,Si,Ni,Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,Ag,W,Re and Au on BK7 substrates is determined. (2)Pt Rh thin film soft X-ray reflectance and total photoelectron reflectance optical constant of 70eV to 900eV range uniformity, method of determining optical constant, method of determining high reliability and accuracy. (3)The measurement of the surface shape of the optical element is confirmed by the evaluation of its performance. Mo/Si/Ru/Si multilayer film has high thermal stability. (4)The optical constant of Au and BaF_2 is 40 - 80eV, and the polarization resolution method is determined by using Au and BaF_2 retroreflective polarizers. Evaluation of the properties of the polarizers of two retro-reflective multilayer films. The transmittance of the polarizers ranges from 80 eV to 120eV and is more than 5% and the maximum is 30%. The polarization energy is more than 99.5%.

项目成果

期刊论文数量(14)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
M.Yanagihara: "Optical Constants of Very Thin Gold Films in the Soft XーRay Region" Applied Optics. (1991)
M.Yanagihara:“软 X 射线区域中非常薄的金膜的光学常数”应用光学 (1991)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
H.Kimura: "Polarization Measurement in the Soft XーRay Region" Book of Abstr.,15th Int'l Conf.XーRay and InnerーShell Processes(Knoxville,1990). B08-B09 (1990)
H.Kimura:“软 X 射线区域的偏振测量”摘要书,第 15 届国际会议 X 射线和内壳过程(Knoxville,1990)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
T.Koide: "Production and Direct Measurement of Circularly Polarized VUV Light with MultiーReflection Optics" Applied Physics Letter.
T.Koide:“利用多重反射光学器件产生和直接测量圆偏振 VUV 光”应用物理快报。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
T.Maehara: "Performance of a WideーBand Soft XーRay Polarizer" Applied Optics.
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  • 发表时间:
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    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
M.Yanagihara: "InーSitu Performance Tests of Soft XーRay Multilayer Mirrors Exposed to Synchrotron Radiation from a Bending Magnet" Applied Optics.
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  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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