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金属人工格子多層膜における原子拡散機構の解明

金属人工格子多層膜における原子拡散機構の解明
金属人工晶格多层膜中原子扩散机制的阐明
批准号：
03240202
负责人：
中嶋 英雄
金额：
$0.9万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1991
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1991 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-03240202/
关键词：
金属人工格子多層膜拡散相互拡散

项目摘要

项目成果

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本研究では金属人工格子多層膜の自己拡散、不純物拡散、相互拡散、反応拡散を高精度に測定しそれらの拡散機構を解明すると共に、多層膜の電気抵抗を測定し、その伝導機構を明らかにすることを目的とした。今年度は金属多層膜の作製、装置の作製、オ-ジェ分析および電気抵抗の測定を遂行した。1.金属人工格子多層膜の作製: 電子ビ-ム加熱2元蒸着装置を用いてAl/FeおよびAl/Ti多層膜を作製した。また、スパッタリング法を用いてFe/Cr多層膜を作製した。2.多層膜における拡散: 超高真空中に取り付けたイオンガスからのArイオンビ-ムによって多層膜拡散試料をスパッタし、そのスパッタ原子を1〜2nmごとに堆積し半導体検出器によりその放射能強度を測定できるイオンビ-ムナノセクショニング装置を今年度で試作、完成した。また、オ-ジェ分析装置の作製も完了し、この装置を用いてFe/Cr多層膜のアニ-ル前後の深さ方向の濃度分布を精度よく測定した結果、350Cで30時間アニ-ルしても濃度分布に大きな変化は認められなかった。従って、Fe/Cr多層膜の拡散係数はバルク試料の相互拡散係数よりもかなり小さいことが判明した。今後、拡散の定量的な測定を行なっていく予定である。3.電気抵抗の測定: Al/FeおよびA1/Ti多層膜の電気抵抗率した結果、抵抗率は積層周期の減少と共に急激に増大することを見出した。これらの抵抗率は積層周期の逆数とほぼ比例関係にあることを見い出し、このことから伝導電子の果面散乱が電気抵抗に大きく寄与するものと結論づけた。
期刊论文(6)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
H.Nakajima: "Interdiffusion in Mo/Ge and Mo/Si Multilayer Thin Films" Sci.Rep.RITU. A35. 1-18 (1990)
H.Nakajima：“Mo/Ge 和 Mo/Si 多层薄膜中的相互扩散”Sci.Rep.RITU。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
中嶋 英雄: "薄膜における拡散" 日本金属学会会報. 29. 229-234 (1990)
Hideo Nakajima：“薄膜中的扩散”日本金属研究所公告 29. 229-234 (1990)。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
S.Fujikawa: "Electrical Resistivity of Al/Fe and Al Ti Multilayered films" J.Vac.Sci.& Technol.(1992)
S.Fujikawa：“Al/Fe 和 Al Ti 多层薄膜的电阻率”J.Vac.Sci。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
ガス化合物添加による貫通孔型ポーラス金属の製法開発と電子・医療機器材料への応用
  • 批准号：
    21656174
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额：
    $2.05万
  • 财政年份：
    2009
  • 负责人：
    中嶋 英雄
  • 依托单位：
    Osaka University
無垢の鉄よりも4倍の比強度をもつ軽量高強度鉄の創製
  • 批准号：
    15656175
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额：
    $2.24万
  • 财政年份：
    2003
  • 负责人：
    中嶋 英雄
  • 依托单位：
    Osaka University
プロチウムの溶解・放出を利用したセル金属構造体の創製
  • 批准号：
    12022219
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
  • 资助金额：
    $1.34万
  • 财政年份：
    2000
  • 负责人：
    中嶋 英雄
  • 依托单位：
    Osaka University
ロータス形状ポーラス金属の応用開発
  • 批准号：
    11792022
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for University and Society Collaboration
  • 资助金额：
    $5.38万
  • 财政年份：
    1999
  • 负责人：
    中嶋 英雄
  • 依托单位：
    Osaka University
海外基金