シリコンの酸化によるナノドットアレイの形成とその論理機能選択デバイス応用
シリコンの酸化によるナノドットアレイの形成とその論理機能選択デバイス応用
批准号:
20035001
负责人:
高橋 庸夫
金额:
$3.46万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2008
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2008 至 2009
中文摘要
将来の高度な情報処理には、高密度集積化されたシリコン集積回路が不可欠であるが、同時に省電力化も図られなければならない。その際、微細化に伴うサイズ揺らぎによる特性の揺らぎが大きな問題となる。これを解決するため、多数のSiナノドットを用いて揺らぎの効果を緩和し、多数のドットを用いたことによる面積拡大をドット間の単電子伝導を利用した高機能化で、省エネ化と併せて補う方式を検討した。加えて、ナノドットを連結させることにより、電子間の相互作用を強めることが可能な構造作成法を実証し、単電子転送という、基本的な特性を示した。1. 多入力・多出力Siナノドットアレイデバイスの作製と評価ナノドットアレイデバイスの特徴は、多数の入力ゲートと多数の出力端子を有し、高い機能を1個のデバイスで実現できることである。複雑な機能を実現できる上に、その機能をゲート電圧で可変であるという、他の素子にはできない機能を持つが、逆に機能の選択性が高すぎて、機能を推定するのが難しくなるという問題がある。これを解決するために、本年度は、スイッチング機能をマッピングする手法を立ち上げ、実際に、もっとも機能が出にくい単純なドットアレイを用いても半加算器とその他の論理機能を切り替えて使えることを容易に判定できることを示した。2. 連結島単電子トランジスタ将来の究極の省エネデバイスを念頭に、単電子転送や量子コンピューティングが可能となる連結島単電子デバイス実現のため、効率的な連結島の作成法を検討した。Si細線の取付け部の構造を工夫することで、自動的に島が連結した構造を実現できることを示し、時際に3連結島を持つ単電子トランジスタを実現し、これを用いて単電子転送デバイスである単電子ターンスタイルの動作を示すことに成功した。
英文摘要
将来の高度な情報処理には、高密度集積化されたシリコン集積回路が不可欠であるが、同時に省電力化も図られなければならない。その際、微細化に伴うサイズ揺らぎによる特性の揺らぎが大きな問題となる。これを解決するため、多数のSiナノドットを用いて揺らぎの効果を緩和し、多数のドットを用いたことによる面積拡大をドット間の単電子伝導を利用した高機能化で、省エネ化と併せて補う方式を検討した。加えて、ナノドットを連結させることにより、電子間の相互作用を強めることが可能な構造作成法を実証し、単電子転送という、基本的な特性を示した。1. 多入力・多出力Siナノドットアレイデバイスの作製と評価ナノドットアレイデバイスの特徴は、多数の入力ゲートと多数の出力端子を有し、高い機能を1個のデバイスで実現できることである。複雑な機能を実現できる上に、その機能をゲート電圧で可変であるという、他の素子にはできない機能を持つが、逆に機能の選択性が高すぎて、機能を推定するのが難しくなるという問題がある。これを解決するために、本年度は、スイッチング機能をマッピングする手法を立ち上げ、実際に、もっとも機能が出にくい単純なドットアレイを用いても半加算器とその他の論理機能を切り替えて使えることを容易に判定できることを示した。2. 連結島単電子トランジスタ将来の究極の省エネデバイスを念頭に、単電子転送や量子コンピューティングが可能となる連結島単電子デバイス実現のため、効率的な連結島の作成法を検討した。Si細線の取付け部の構造を工夫することで、自動的に島が連結した構造を実現できることを示し、時際に3連結島を持つ単電子トランジスタを実現し、これを用いて単電子転送デバイスである単電子ターンスタイルの動作を示すことに成功した。
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Fabrication method for triple-coupled dots based on pattern-dependent oxidation
基于图案依赖氧化的三重耦合点的制备方法
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Ohya, K. Nagahama, T. Ouchi, 大矢裕一, 大矢裕一, 大矢裕一, 藤井孝史, 近藤洋史, 梶宏道, 曹民圭, 開澤拓弥, 開澤拓弥, 曹民圭, C. K. Lee, Neil M. Zimmerman, 小野行徳, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 西口克彦, 藤井孝史, 高橋庸夫]
通讯作者:
高橋庸夫
TEM内電気伝導計測のための特殊ホルダー開発とその応用
TEM电导测量专用支架的研制及其应用
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Ohya, K. Nagahama, T. Ouchi, 大矢裕一, 大矢裕一, 大矢裕一, 藤井孝史, 近藤洋史, 梶宏道, 曹民圭, 開澤拓弥, 開澤拓弥, 曹民圭, C. K. Lee, Neil M. Zimmerman, 小野行徳, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 西口克彦, 藤井孝史, 高橋庸夫, 川西敬仁, 加藤勇樹, 曹民圭, 加藤勇樹, 梶宏道, 高橋庸夫, 有田正志]
通讯作者:
有田正志
ReRAM応用に向けたNiO薄膜の熱酸化温度とフォーミング電圧の関係
ReRAM应用NiO薄膜热氧化温度与形成电压的关系
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Ohya, K. Nagahama, T. Ouchi, 大矢裕一, 大矢裕一, 大矢裕一, 藤井孝史, 近藤洋史, 梶宏道, 曹民圭, 開澤拓弥, 開澤拓弥, 曹民圭, C. K. Lee, Neil M. Zimmerman, 小野行徳, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 西口克彦, 藤井孝史, 高橋庸夫, 川西敬仁, 加藤勇樹, 曹民圭, 加藤勇樹, 梶宏道, 高橋庸夫, 有田正志, 高橋庸夫, 工藤昌輝, 曹民圭, 藤井孝史, 梶宏道, 近藤洋史, 曹民圭, 高橋庸夫, 曹民圭, 藤井孝史, 曹民圭, 徳田良平, 工藤昌輝, 曹民圭, 藤井孝史, 曹民圭, 藤井孝史, 徳田良平, 曹民圭, 高橋庸夫, 曹民圭, 藤井孝史, 梶宏道, 近藤洋史]
通讯作者:
近藤洋史
透過型電子顕微鏡内におけるPr_<0.7c>a_<0.3>MnO_3のReRAM特性
Pr_<0.7c>a_<0.3>MnO_3的ReRAM透射电子显微镜特征
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Ohya, K. Nagahama, T. Ouchi, 大矢裕一, 大矢裕一, 大矢裕一, 藤井孝史, 近藤洋史, 梶宏道, 曹民圭, 開澤拓弥, 開澤拓弥, 曹民圭, C. K. Lee, Neil M. Zimmerman, 小野行徳, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 西口克彦, 藤井孝史, 高橋庸夫, 川西敬仁, 加藤勇樹, 曹民圭, 加藤勇樹, 梶宏道, 高橋庸夫, 有田正志, 高橋庸夫, 工藤昌輝, 曹民圭, 藤井孝史, 梶宏道, 近藤洋史, 曹民圭, 高橋庸夫, 曹民圭, 藤井孝史, 曹民圭, 徳田良平, 工藤昌輝, 曹民圭, 藤井孝史, 曹民圭, 藤井孝史, 徳田良平, 曹民圭, 高橋庸夫, 曹民圭, 藤井孝史, 梶宏道, 近藤洋史, 徳田良平, 有田正志, 藤井孝史]
通讯作者:
藤井孝史
単層Fe-MgO系グラニュラー薄膜を用いたナノ構造デバイス
使用单层 Fe-MgO 颗粒薄膜的纳米结构器件
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Ohya, K. Nagahama, T. Ouchi, 大矢裕一, 大矢裕一, 大矢裕一, 藤井孝史, 近藤洋史, 梶宏道, 曹民圭, 開澤拓弥, 開澤拓弥, 曹民圭, C. K. Lee, Neil M. Zimmerman, 小野行徳, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 西口克彦, 藤井孝史, 高橋庸夫, 川西敬仁, 加藤勇樹, 曹民圭, 加藤勇樹, 梶宏道, 高橋庸夫, 有田正志, 高橋庸夫, 工藤昌輝, 曹民圭, 藤井孝史, 梶宏道, 近藤洋史, 曹民圭, 高橋庸夫, 曹民圭, 藤井孝史, 曹民圭, 徳田良平, 工藤昌輝, 曹民圭, 藤井孝史, 曹民圭, 藤井孝史, 徳田良平, 曹民圭, 高橋庸夫, 曹民圭, 藤井孝史, 梶宏道, 近藤洋史, 徳田良平, 有田正志, 藤井孝史, 高橋庸夫, 曹民圭, 梶宏道, 若杉恭平]
通讯作者:
若杉恭平
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シリコンナノドットを用いた論理機能選択デバイス
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批准号:19026001
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.66万
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财政年份:2007
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负责人:高橋 庸夫
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依托单位:
海外基金