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ラジカル解離型フォトクロミック系の光誘起表面レリーフ構造の構築と機能化

自由基解离光致变色系统光诱导表面浮雕结构的构建和功能化

基本信息

批准号：
20044008
负责人：
菊地あづさ
金额：
$ 1.41万
依托单位：
Yokohama National University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
2008
资助国家：
日本
起止时间：
2008 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

光誘起表面レリーフ(PSR)形成はアゾベンゼンなどのフォトクロミック分子において報告されているが、スピン機能を有するフォトクロミック系での報告はなく、その形成メカニズムについては明確になっていない。ラジカル解離型フォトクロミズムを示すヘキサアリールビスイミダゾール(HABI)は光照射により生成するイミダゾリルラジカルの反応性が高く、これまで記録媒体等のフォトクロミック材料への展開が困難とされてきた。申請者はイミダゾリルラジカルの電子状態制御指針を確立し、そのラジカル特性に着目し、HABI誘導体の単一成分アモルファス薄膜においてPSR形成を見出した。AFMイメージとフォトマスク形状の照合からHABI誘導体では物質移動に起因してPSR構造が形成されることを明らかにした。HABI誘導体の一つであるo-Cl-HABIでは光暗部が凸、光明部が凹部として得られるが、アゾベンゼンを導入したazo-HABIでは光暗部が凹になり光明部が凸部として得られる。このことから、HABIに導入する置換基によりPSR構造が異なる、すなわち、フォトクロミック反応部位であるイミダゾリルラジカル部位の電子状態(反応性)の違いによりPSR形成メカニズムが異なる可能性を示唆した。

Light Induced Surface Degradation (PSR) Formation of a Molecular Report System with a Light Induced Surface Degradation (PSR) Function The high reflectivity of HABI, which is produced by light irradiation, is difficult to develop in recording media, etc. The applicant shall establish the electronic state control index of the HABI inducer, and shall observe the formation of the PSR in the single component of the HABI inducer AFM is the source of mass migration. HABI-inducing substance is composed of two parts: light and dark parts, convex parts and light and concave parts. The possibility of PSR structure variation is demonstrated by the variation of electronic state (reflectivity) of the PSR structure in the substitution base introduced by HABI.