プラズマ局所構造に伴う電位形成とエネルギー分布の制御

控制与等离子体局部结构相关的电势形成和能量分布

基本信息

  • 批准号:
    63632002
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 6.4万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1988
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1988 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

プラズマプロセスを効率的かつ選択的に行なうには、プラズマパラメータとプロセス結果との因果関係を解明することが重要である。特に電子(イオン)のエネルギー分布は反応を決定する重要な因子であり、その制御方式の確立が本研究の目的になっている。プラズマ生成方式として、2つの異なる特性をもつ方法を用いた。1つは直流放電による生成であり、他はマイクロ波の電子サイクロトロン共鳴(ECR)によるプラズマ生成である。1.東北大学においては、ピン付ホロー陰極を用いた直流放電によるプラズマを生成し、ピンの長さあるいは外部磁場を変化させることにより、プラズマ内部の電子のエネルギー分布の制御実験を行なった。ホロー陰極内でピンの長さを長くすると、周辺部のピンへ放電部が移動し、陰極中心部の電子温度が急激に低下することが分かった。ピンの長さを変えるとピンのない場合の3〜4eVから、ピンのある場合の〜0.5eVまで連続的に電子温度が制御できた。磁場の印加もピンの長さと同様な効果をもつことが明らかになった。2.名古屋大学と大阪大学においては、ミラー磁場中マイクロ波(2.45GHz)を入射し、ホイスラー波によるプラズマ生成と電子加熱実験を行なった。ソフトX線及びVUV分光法による電子温度の測定により、電子温度を3〜12eVの範囲で連続的に制御できることが分かった。また、電子密度も10^9〜4×10^<12>/cm^3の範囲で制御できた。応用実験として、水素-メタン混合ガス放電により、シリコン基板上に炭素系薄膜を成長させ、レーザラマン分光により薄膜特有のスペクトルが得られ、膜の評価方法としての有効性が明らかにされた。以上の実験を通し直流放電及びマイキロ波放電により、プロセス制御に必要な電子のエネルギー分布が広範囲に制御できることが解明された。
The causal relationship between the results of the selection and the results of the selection is important. An important factor in determining the distribution of electrons in the electron system is the establishment of the control method for the purpose of this study. The method of generation is different from the method of generation. 1. DC current generation, other electronic resonance (ECR) generation 1. Tohoku University-DC power generation, power generation The temperature of electrons in the center of the cathode decreases rapidly. The electron temperature is controlled by the electron temperature in the case of 3 ~ 4eV and ~ 0.5 eV. The magnetic field is long and the same. 2. Nagoya University, Osaka University, Japan X-ray and UV spectroscopy for electron temperature measurement, electron temperature measurement in the range of 3 ~ 12eV The electron density is between 10^9 and 4×10^<12>/cm^3. Carbon thin films are grown on a substrate using a mixture of water and carbon. The above is the first time that the DC current and the electromagnetic wave are transmitted to the system.

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
庄司多津男: プラズマプロセシングの研究会試料. 6. 8-11 (1989)
Tatsuo Shoji:等离子体处理研究组样本。6. 8-11 (1989)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
三宅庄司: プラズマプロセシング研究会資料. 6. 12-17 (1989)
Shoji Miyake:等离子体处理研究组材料。6. 12-17 (1989)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
門田清: プラズマプロセシング研究会資料. 6. 302-305 (1989)
Kiyoshi Kadota:等离子体加工研究小组材料。6. 302-305 (1989)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
三重野哲: プラズマプロセシング研究会資料. 6. 435-438 (1989)
Satoshi Mieno:等离子体处理研究组材料。6. 435-438 (1989)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
佐藤徳芳: プラズマプロセシング研究会資料. 6. 1-1 (1989)
Noriyoshi Sato:等离子体处理研究组材料。6. 1-1 (1989)
  • DOI:
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    0
  • 作者:
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