プラズマ局所構造に伴う電位形成とエネルギー分布の制御

控制与等离子体局部结构相关的电势形成和能量分布

• 批准号: 01632002
• 负责人: 佐藤 徳芳
• 金额: $ 7.04万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1989
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1989 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-01632002/
• 关键词: プラズマプロセシング; ホローカソード; ECRプラズマ; ホイスラー波プラズマ生成; 荷電粒子エネルギー分布; 分光測定; 膜生成速度

反応性プラズマを用いるプラズマプロセシングにおいて、電子およびイオンのエネルギー分布の制御は極めて重要である。本研究では、放電プラズマの局所構造に着目し、それを変えることによってエネルギー分布を制御することを試み、エネルギー分布制御の手法を確立することを目的としている。プラズマ生成は2つの異なる特性をもつ方式によった。1つは直流放電によるもの(東北大学)であり、他はホイスラー波による高周波放電と電子サイクロトロン共鳴によるマイクロ波放電(名古屋大学、大阪大学)である。1.東北大学においては、ピン付きホロー陰極を用いた直流放電によってプラズマを生成し、ピン長さを変えることによって空間構造を変え、電子の温度を0.3ー4.0eVの範囲にわたって制御することに成功した。この結果を更に発展させ、陰極の直径を10cmにし、プラズマ径を大きくするとともに、板状陽極に穴をあけて、このプラズマを陽極の後方に拡散させることができた。この原理に立却して、プラズマプロセス用の電子可変の新しいプラズマ発生方法を提案することができた。2.高周波放電プラズマについては、名古屋大学において、電子温度3ー20eV、プラズマ密度10^<10>ー10^<13>cm^<-3>が得られており、分光測定などにより、活性種のパラメータ依存を調べるとともに、炭素膜の生成速度が、プラズマ密度を上げることによって、改良されることを見い出した。マイクロ波放電においては、大阪大学で、その空間構造が真空容器の形状に大きく依存することを観測し、その依存性を詳細に調べると同時に、膜生成速度が電子の共鳴領域で最大となることを示した。以上要約すると、電子温度の制御法の提案が可能になるとともに、予備均測定により、膜生成速度に関する有用な知見を得ることができた。

In the context of the development of anti-corruption software, the control of the distribution of electronic and electronic products is extremely important. This study is aimed at establishing the structure of the system. 2. The characteristics of the different ways of generating 1. DC Li Guo (Tohoku University) 1. Tohoku University, Japan, Korea, Korea, Japan, Korea, South Korea, Korea, Japan, Korea, Korea, South Korea, Japan, South Korea, South Korea, South The result is that the cathode diameter is 10cm, the anode diameter is 10cm, and the anode diameter is 10 cm. A new method for the development of electronic technologies for the application of these technologies is proposed. 2. High frequency lithium ion source, Nagoya University, electron temperature 3 - 20eV, density <10>10^<13>cm^<-3>obtained, spectroscopy, active species dependence, carbon film formation rate, density, improvement, etc. The spatial structure of the vacuum vessel depends on the measurement and adjustment of the electron resonance field. The above proposals for electron temperature control are available for measurement and useful knowledge of film formation rates.

项目成果

S.Iizuka: "Control of Electron Energy Distribution in a Discharge Plasma" Proc.of 1989 ICPP,New Delhi. 3. 1193-1196 (1989)

S.Iizuka：“放电等离子体中电子能量分布的控制”Proc.of 1989 ICPP，新德里。

S.Iizuka: "Electron Energy Control by Pin-Hollow Cathode" Proc.of 7th Symp.on Plasma Processing,Tokyo,1990. 313-316 (1990)

S.Iizuka：“针空心阴极的电子能量控制”Proc.of 7th Symp.on Plasma Process，东京，1990。

T.Shozi: "Control of Hydrocarbon Radicals and Film Deposition in a Magnetic Mirron Plasma" Proc.of 7th Symp.on Plasma Processing,Tokyo,1990. 25-28 (1990)

T.Shozi：“磁镜等离子体中碳氢化合物自由基和薄膜沉积的控制”Proc.of 7th Symp.on Plasma Process，东京，1990。

W.Chen: "ECR Plasma Behavior and CVD in CH_4 and H_2 gas Mixture" Proc.of 7th Symp.on Plasma Processing,Tokyof,1990. 97-100 (1990)

W.Chen：“CH_4 和 H_2 气体混合物中的 ECR 等离子体行为和 CVD”Proc.of 7th Symp.on Plasma Process，东京，1990。