Development of high speed deposition method of DLC films by ICP / PSD plasma CVD hybrid system
Development of high speed deposition method of DLC films by ICP / PSD plasma CVD hybrid system
批准号:
15K21580
负责人:
kamada takaharu
金额:
$2.83万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2018-03-31
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会议论文
擬火花放電プラズマCVD法によるDLC膜の特性評価
赝火花放电等离子体CVD法评价DLC膜特性
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[鎌田貴晴, 渡部政行, 向川 政治]
通讯作者:
向川 政治
Influence of substrate bias voltage and properties of hydrogenated diamond-like corbon films deposited by Pseudo-spark discharge PECVD
基体偏压对赝火花放电PECVD沉积氢化类金刚石薄膜性能的影响
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[T. Kamada, M. Watanabe, Y. Nakamura, and S. Mukaigawa]
通讯作者:
and S. Mukaigawa
誘導結合プラズマにおけるプラズマインピーダンスの気圧依存性
电感耦合等离子体中等离子体阻抗的压力依赖性
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[山田健太, 向川政治, 高木浩一, 高橋克幸, 鎌田貴晴]
通讯作者:
鎌田貴晴
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