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Development of high speed deposition method of DLC films by ICP / PSD plasma CVD hybrid system

Development of high speed deposition method of DLC films by ICP / PSD plasma CVD hybrid system
ICP/PSD等离子体CVD混合系统高速沉积DLC膜方法的开发
批准号:
15K21580
负责人:
kamada takaharu
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2018-03-31

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