Reduction of contact resistance and demonstration of nitrogen-polar AlN field-effect transistors

降低接触电阻并演示氮极性AlN场效应晶体管

基本信息

  • 批准号:
    17K14110
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Electrical Properties of Si-Ion Implanted AlN
硅离子注入 AlN 的电性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Okumura;S. Suihkonen;and T. Palacios
  • 通讯作者:
    and T. Palacios
MOVPE growth of nitrogen- and aluminum-polar AlN on 4H-SiC
  • DOI:
    10.1016/j.jcrysgro.2018.02.020
  • 发表时间:
    2018-04
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    J. Lemettinen;H. Okumura;I. Kim;M. Rudziński;J. Grzonka;T. Palacios;S. Suihkonen
  • 通讯作者:
    J. Lemettinen;H. Okumura;I. Kim;M. Rudziński;J. Grzonka;T. Palacios;S. Suihkonen
Linkoping University(Sweden)
林雪平大学(瑞典)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Aalto university(Finland)
阿尔托大学(芬兰)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Demonstration of Nitrogen-face AlN-based polarization field-effect transistors
氮面 AlN 基极化场效应晶体管的演示
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hironori Okumura;Jori Lemettinen;Sami Suihkonen;Tomas Palacios
  • 通讯作者:
    Tomas Palacios
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    Tomas Palacios
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