Mechanismus der photochemischen Wasserstoffdesorption von der Silizium(111)-Oberfläche

硅（111）表面光化学解氢机理

• 批准号: 5156612
• 负责人: Professor Dr. Peter Hess
• 金额: --
• 依托单位: Physikalisch-Chemisches Institut
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 1999
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1998-12-31 至 2001-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5156612?language=en
• 关键词: Mechanismus; der; photochemischen; Wasserstoffdesorption; von

Der Mechanismus und die Eigenschaften der photochemischen Wasserstoffdesorption von einer wasserstoffterminierten, idealen Siliziumoberfläche sollen mit einem F2-Laser bei 157 nm und einem ArF-Laser bei 193 nm untersucht werden. Die Desorption von atomarem und molekularem Wasserstoff wird als Funktion des Desorptionswinkels mit Hilfe der Flugzeitmassenspektrometrie bestimmt. Aus den Flugzeitverteilungen (Maxwell-Boltzmann-Verteilungen) ergibt sich die maximale und mittlere kinetische Energie der desorbierten Spezies. Die Terminierung der Oberfläche mit Deuterium liefert über den Isotopeneffekt wichtige Informationen zur ultraschnellen Desaktivierung des repulsiven elektronischen Anregungszustandes der Siliziumwasserstoffbindung durch resonante Substratanregung und die Desorption aus dem hochschwingungsangeregten Grundzustand. Die Desorptionsdy namik im Grundzustand wird mit Hilfe eines realistischen Potentials zwischen den Silizium- und Wasserstoffatomen simuliert und die kinetische Energie der Desorptionsprodukte bestimmt.

光化学反应的机理和特征在于，理想的硅分子膜溶液采用157 nm的F2激光和193 nm的ArF激光进行韦尔登。原子和分子的脱附作用在飞行时间质谱仪的帮助下被证明是脱附作用的结果。从麦克斯韦-玻尔兹曼-维特伦根（Maxwell-Boltzmann-Verteilungen）出发，可以得到脱附空间的最大和最小动能.含氘的Oberfläche终端具有同位素效应，这是通过共振基底和高吸收基本原理的解吸作用，使硅废物结合的排斥电子的超声波解吸的信息。这种脱附现象在基础上具有与硅原子和水原子相互作用的实际势能，并且脱附产物的动力学能量是可以估计的。