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低濃度域における反応速度の研究

低濃度域における反応速度の研究
低浓度范围反应速率研究
批准号：
X00210----175513
负责人：
小宮山 宏
金额：
$0.22万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1976
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1976 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-X00210----175513/
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先端材料プロセスにおけるナノ単位操作
  • 批准号：
    05353006
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    1993
  • 负责人：
    小宮山 宏
  • 依托单位：
    The University of Tokyo
プラズマCVDに関する反応工学的研究
  • 批准号：
    62550711
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $0.96万
  • 财政年份：
    1987
  • 负责人：
    小宮山 宏
  • 依托单位：
    The University of Tokyo
超微粒子熱永動CVDによるAlN板の合成
  • 批准号：
    62850165
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
  • 资助金额：
    $5.38万
  • 财政年份：
    1987
  • 负责人：
    小宮山 宏
  • 依托单位：
    The University of Tokyo
アモルファス触媒の高比表面積化とCO水素化反応
  • 批准号：
    60045034
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Energy Research
  • 资助金额：
    $1.34万
  • 财政年份：
    1985
  • 负责人：
    小宮山 宏
  • 依托单位：
    The University of Tokyo