先端材料プロセスにおけるナノ単位操作
先端材料プロセスにおけるナノ単位操作
批准号:
05353006
负责人:
小宮山 宏
金额:
$1.28万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
财政年份:
1993
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1993 至 --
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英文摘要
本研究では先端材料開発において用いられているサブミクロンからナノメーターレベルでの材料設計・構造制御・合成手法のなかから普遍的な手法を「ナノ単位操作」として体系化することを目的にしている。原子レベルでの物質の混合操作(ナノ混合操作)について、有機、無機、バイオなどの分野に普遍的な特徴を明らかにするとともに、ナノ拡散操作、ナノ分離操作、ナノ被覆操作、ナノ晶析操作、ナノ分散操作、ナノ細孔制御、ナノ反応操作、ナノ構造解析、ナノ分解操作、ナノ粉砕操作など先端材料開発におけるナノレベルでの単位操作群の体系化を図るため、「ナノ〜サブマイクロメーター」領域における個々の単位操作に関する調査研究を行った。研究代表者、および各分担者はそれぞれ各ナノ単位操作の調査、検討を行い、1回の幹事会、2回の全体研究会を開催し、相互に討論を行い、個々の研究を発展させ、その構築化を図ってきた。さらに研究報告会を開催し、成果を公開するとともに、多方面より批判を仰ぎ、研究の発展に役立ててきた。研究成果として理学分野の理論研究者、実験研究者、ならびに先端材料開発に関係する電気、機械、材料、バイオなど可能な限り、広い分野からの参加者を得て、ナノ単位操作をより広範な基盤の上に構築するために、最終的に平成7年度重点領域研究「ナノ構造材料のための単位操作群の構築とその展開」を申請し、この研究の最大の目的を果たした。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
J.W.Haus: "Quantum confinement in semiconductor heterostructure nano-meter-size particles" Physical Review B. 47. 1359-1365 (1993)
J.W.Haus:“半导体异质结构纳米尺寸粒子中的量子限制”物理评论 B.47.1359-1365 (1993)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
プラズマCVDに関する反応工学的研究
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批准号:62550711
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1987
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
超微粒子熱永動CVDによるAlN板の合成
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批准号:62850165
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$5.38万
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财政年份:1987
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
アモルファス触媒の高比表面積化とCO水素化反応
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批准号:60045034
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项目类别:Grant-in-Aid for Energy Research
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1985
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
熱泳動を利用した CVD による超微粒子膜の合成
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批准号:60550674
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1985
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
アモルファス微粒子触媒による脱硝反応
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批准号:60850169
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$4.48万
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财政年份:1985
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
気相合成による超微粒子酸化物の製造と触媒特性
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批准号:59550665
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1984
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
アモルファス合金を出発物質とした高活性触媒の開発
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批准号:58045034
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项目类别:Grant-in-Aid for Energy Research
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资助金额:$1.02万
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财政年份:1983
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
アモルファス金属箔による触媒反応-一酸化炭素の水素化による低級オレフィンの合成
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批准号:56211009
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1981
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
アモルファス金属箔による触媒反応-一酸化炭素の水素化による低級オレフィンの合成
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批准号:X00040----521513
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$0.9万
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财政年份:1980
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
湿式接触酸化反応における含窒素化合物の挙動
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批准号:X00210----475724
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1979
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
同伴液滴の蒸発潜熱による高発熱固接触反応の温度制御に関する研究
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批准号:X00210----275503
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.24万
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财政年份:1977
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负责人:小宮山 宏
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依托单位:
低濃度域における反応速度の研究
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批准号:X00210----175513
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.22万
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财政年份:1976
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负责人:小宮山 宏
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依托单位: