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還元的脱離‐酸化的付加による有機ニッケル(II)錯体の合成

還元的脱離‐酸化的付加による有機ニッケル(II)錯体の合成
还原消除-氧化加成合成有机硅(II)配合物
批准号:
58550569
负责人:
和田 正徳
金额:
$0.64万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1983
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1983 至 --
关键词:

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高配位有機リン化合物の合成と反応
  • 批准号:
    04217218
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $1.6万
  • 财政年份:
    1992
  • 负责人:
    和田 正徳
  • 依托单位:
高配位有機リン化合物の合成と反応
  • 批准号:
    03233218
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $0.64万
  • 财政年份:
    1991
  • 负责人:
    和田 正徳
  • 依托单位:
高配位有機リン化合物の合成と反応
  • 批准号:
    02247215
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $0.77万
  • 财政年份:
    1990
  • 负责人:
    和田 正徳
  • 依托单位:
ニッケル (II) カルベン錯体の合成・構造および反応
  • 批准号:
    X00090----354222
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.06万
  • 财政年份:
    1978
  • 负责人:
    和田 正徳
  • 依托单位: