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Xe-NMR auf Einkristalloberflächen

Xe-NMR auf Einkristalloberflächen
单晶表面的 Xe NMR
批准号:
5179818
负责人:
Professor Dr. Heinz Julius Jänsch
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
1994
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1993-12-31 至 2002-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
Ziel des Fortsetzungsantrags ist der endgültige Nachweis eines NMR-Signals von 129 nm,das auf einer Einkristalloberfläche adsorbiert ist.在这两个版本中,我的两个版本将被修改。Zur Verfügung stehen höchstpolarisiertes,gezielt dosierbares Xenongas,getrnt von Stickstoff; eine NMR-Apparatur mit Probenkopf; eine Vakuumapparatur,die Kristallmanipulation,Kühlung und Heizung und in bedingtem Umfange auch die Kristallpreparation erlaubt. Die implementierte Stickstoffkühlung des Substrats erlaubt eine Monolagenadsorption von Xenon努尔auf metallischen Oberflächen.在韦尔登信号不佳的情况下,T1-Relaxationszeiten von Metallen zu erklären ist。在一个较厚的外层空间工作时,必须安装一个韦尔登,其结晶温度低于50 K,因此氙气也不能吸附金属外层空间的韦尔登。Die Beobachtung eines Resonanzsignales sollte dann möglich sein,da bereits gezeigt wurde,dafening Submonolagenmengen eines Xenoncondensates zu einem nachweisbaren Signal führen. Als Kandidaten zur Substratwahl kommen adsorbatpassivierte Metalle,Halbleiteroberflächen oder nichtleitende Oberflächen wie Oxide in Frage.
英文摘要
Ziel des Fortsetzungsantrags ist der endgültige Nachweis eines NMR-Signals von 129Xe, das auf einer Einkristalloberfläche adsorbiert ist. In den zwei vorausgegangenen je 2-jährigen Antragsperioden wurden die Voraussetzungen hierzu geschaffen. Zur Verfügung stehen höchstpolarisiertes, gezielt dosierbares Xenongas, getrennt von Stickstoff; eine NMR-Apparatur mit Probenkopf; eine Vakuumapparatur, die Kristallmanipulation, Kühlung und Heizung und in bedingtem Umfange auch die Kristallpräparation erlaubt. Die implementierte Stickstoffkühlung des Substrats erlaubt eine Monolagenadsorption von Xenon nur auf metallischen Oberflächen. Auf diesen konnte bisher kein Signal beobachtet werden, was mit den möglicherweise kurzen T1-Relaxationszeiten von Xe auf Metallen zu erklären ist. Um an schwächer bindenden Oberflächen arbeiten zu können, muß eine Heliumkühlung installiert werden, um die Kristalltemperatur unter 50 K abzusenken, so daß Xenon auch auf nichtmetallischen Oberflächen adsorbiert werden kann. Die Beobachtung eines Resonanzsignales sollte dann möglich sein, da bereits gezeigt wurde, daß Submonolagenmengen eines Xenonkondensates zu einem nachweisbaren Signal führen. Als Kandidaten zur Substratwahl kommen adsorbatpassivierte Metalle, Halbleiteroberflächen oder nichtleitende Oberflächen wie Oxide in Frage.
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会议论文
Oberflächen- und Interlagendiffusion von Xenon in Monolagen und Multilagen
  • 批准号:
    149669143
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    Professor Dr. Heinz Julius Jänsch
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
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  • 批准号:
    JCZRYB202500181
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2025
  • 负责人:
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  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2024
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    --
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  • 资助金额:
    --
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  • 依托单位: