Xe-NMR auf Einkristalloberflächen
Xe-NMR auf Einkristalloberflächen
批准号:
5179818
负责人:
Professor Dr. Heinz Julius Jänsch
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
1994
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1993-12-31 至 2002-12-31
中文摘要
Ziel des Fortsetzungsantrags ist der endgültige Nachweis eines核磁共振-Signal von 129Xe,das auf einer Einkristalloberfläche吸附剂。在2-jährigen-jährigen Antangsperiden Wurden die Vorossetzungen hierzu geschaffen.在床上,所有的东西都是这样的:从农庄,到斯蒂克斯托夫;核磁共振仪,晶振;晶振;晶振,晶振;晶振,晶振。Stickstoffkühung Des衬底单层吸附von Xenon Nur auf金属材料OberfläChen。AUF Diesen Konnte Bisher kein Signal beobachtet Werden,is MIT den möglicherweise Kurzen T1-Relaxationszeiten von Xe auf Metallen zu Erklären ist.在50K以下的温度范围内,所有的金属都被吸附在金属上,所以金属的吸附也不能。他说:“我的意思是,我不知道你的意思是什么,我也不知道。”Als Kandidaten zur Substratwahl Komman在碎屑中吸附被动金属、HalbleiteroberfläChen和Nechtleitende OberfläChen Wie Oxide。
英文摘要
Ziel des Fortsetzungsantrags ist der endgültige Nachweis eines NMR-Signals von 129Xe, das auf einer Einkristalloberfläche adsorbiert ist. In den zwei vorausgegangenen je 2-jährigen Antragsperioden wurden die Voraussetzungen hierzu geschaffen. Zur Verfügung stehen höchstpolarisiertes, gezielt dosierbares Xenongas, getrennt von Stickstoff; eine NMR-Apparatur mit Probenkopf; eine Vakuumapparatur, die Kristallmanipulation, Kühlung und Heizung und in bedingtem Umfange auch die Kristallpräparation erlaubt. Die implementierte Stickstoffkühlung des Substrats erlaubt eine Monolagenadsorption von Xenon nur auf metallischen Oberflächen. Auf diesen konnte bisher kein Signal beobachtet werden, was mit den möglicherweise kurzen T1-Relaxationszeiten von Xe auf Metallen zu erklären ist. Um an schwächer bindenden Oberflächen arbeiten zu können, muß eine Heliumkühlung installiert werden, um die Kristalltemperatur unter 50 K abzusenken, so daß Xenon auch auf nichtmetallischen Oberflächen adsorbiert werden kann. Die Beobachtung eines Resonanzsignales sollte dann möglich sein, da bereits gezeigt wurde, daß Submonolagenmengen eines Xenonkondensates zu einem nachweisbaren Signal führen. Als Kandidaten zur Substratwahl kommen adsorbatpassivierte Metalle, Halbleiteroberflächen oder nichtleitende Oberflächen wie Oxide in Frage.
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会议论文
Oberflächen- und Interlagendiffusion von Xenon in Monolagen und Multilagen
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批准号:149669143
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项目类别:Research Grants
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资助金额:$0.0万
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财政年份:2009
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负责人:Professor Dr. Heinz Julius Jänsch
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依托单位:
国内基金
海外基金
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