Oberflächen- und Interlagendiffusion von Xenon in Monolagen und Multilagen

单层和多层中氙的表面和层间扩散

• 批准号: 149669143
• 负责人: Professor Dr. Heinz Julius Jänsch
• 金额: --
• 依托单位: Fachbereich 13: Physik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2008-12-31 至 2015-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/149669143?language=en
• 关键词: Oberfl; chen; und; Interlagendiffusion; von

Die Oberflächendiffusion von Adsorbaten im Monolagen- und Multilagenbereich ist einer der wichtigsten dynamischen Prozesse auf Oberflächen. Besonders das Wachstum von Adsorbatschichten sowie die Stabilität von Adsorbatstrukturen werden erheblich von Diffusionsprozessen bestimmt. Im vorgeschlagenen Projekt soll die Diffusion von Xe-Atomen in und auf Xenon-Schichten im Monolagen- und insbesondere im Multilagenbereich auf Einkristallsubstraten untersucht werden. Gegenstand der Untersuchung sind das Tempern, die Interlagendiffusion, also die Vermischung der letzten Atomlagen, und die Tracer-Diffusion im Monolagen- und Multilagenbereich. Dies wird im Temperaturbereich von 25-70 K erfolgen, also von schwacher bis starker thermischer Anregung der Xenon-Schicht. Methodisch wird die Kernspinresonanz (NMR) an 129Xe eingesetzt. Die Platzwechsel werden durch 2DAustausch- NMR Spektroskopie (EXSY) untersucht. Beim Tempern werden strukturelle Inhomogenitäten ausgeheilt, diese schlagen sich in der Liniebreite nieder. Untersuchungen hierzu sollen an Proben mit verringertem 129Xe Isotopenanteil durchgeführt werden, wodurch sich die Dipolbreite herabsetzen lässt. Die Tracer-Diffusion kann durch gepulste Magnetfeldgradienten (PFG-NMR) vermessen werden. Die notwendige Empfindlichkeit wird durch optisch polarisiertes 129Xe erreicht, bei dem die Kernpolarisation (Pz~0.5) um einen Faktor 105 gegenüber der thermischen Polarisation gesteigert wurde. Daher ist die Untersuchung von Monolagen auf einer Fläche von etwa 1 cm2 möglich.

Die Oberflächendiffusion von Adsorbaten im Monolagen- und Multilagenbereich ist einer der wichtigsten dynamischen Prozesse auf Oberflächen.因此，吸附剂的性质决定了吸附结构的稳定性，韦尔登的扩散过程是最好的。本项目旨在解决氙原子在单分子材料中的扩散，以及在韦尔登基体上的多层扩散。研究的内容包括温度、层间扩散、低原子层的扩散以及单层和多层示踪剂扩散。Dies wird im Temperaturbereich von 25-70 K erfolgen，也是von schwacher bis starker thermischer Anregung der Xenon-Schicht。Methodisch wird die Kernspinresonanz（NMR）an 129Meingesetzt.通过2DAustausch-NMR Spektroskopie（EXSY）确定了平台韦尔登。由于温度韦尔登，这种不均匀在衬里中没有出现。如果在韦尔登中加入129当量的同位素，那么偶极炸药就会消失。示踪剂扩散可以通过脉冲磁梯度（PFG-NMR）进行韦尔登。在热偏振的一个因子105的核偏振（Pz~0.5）下，通过光学偏振器129可以得到不确定的结果。Daher is die Untersuchung von Monolagen auf einer Fläche von etwa 1 cm 2 möglich.