不飽和有機ケイ素イオン-分子反応におけるd電子効果の分子論的研究

不饱和有机硅离子分子反应中d电子效应的分子研究

• 批准号: 10133232
• 负责人: 竹内 孝江
• 金额: $ 1.28万
• 依托单位: Nara Women's University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
• 财政年份: 1998
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1998 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-10133232/
• 关键词: フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴; ジシリン(disilyne); 不飽和ケイ素イオン; シラシクロブタジエン; シラシクロブテン; MS; ab initio MO; イオン-分子反応

ケイ素原子との間に多重結合をもつ化合物は不安定であるため,溶液反応では単離することが困難である。しかし,真空下でシラシクロブタンやシラシクロブタジエン誘導体をイオン化すれば,生成した分子イオンの単分子分解によって,SiC二重または三重結合をもつイオンの生成が期待される。本研究の目的は,SiC多重結合をもう不飽和ケイ素イオンを質量分析計中で生成させ,その構造と反応性を確かめることである。1-silacyclobut-3-ene誘導体をイオン化することによって,シラシクロブタジエン誘導体イオンを生成させ,そのイオンの構造をMS/MS法によって解析した。2-adamanty1-4-tert-buty1-2-trimethylsiloxy-1,1-bis(trimethylsilyl)-1-silacyclobut-3-eneの分子イオンのMS/MSでは,TMS脱離,tert-butyl脱離,および(TMS)_2O脱離によるピークが観測された。フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴(FT-ICR)装置によって,m/z 330のフラグメントイオンの精密質量を測定した結果,その化学組成はC_<20>H_<34>Si_2^<+・>であり,分子イオンからの(TMS)_2O脱離によって生成したSiC二重結合をもつシラシクロブタジエン誘導体イオンであると考えられた。イオン化室内で生成したフラグメントイオン[M-(TMS)_2O]^<+・>のみを選択し,このイオンからの分解反応を,4セクター型タンデム質量分析計およびFT-ICR装置を用いて確かめた。[M-(TMS)_2O]^<+・>からのMS/MSでは,CH_3脱離やC_3H_5脱離によるピークのほか,m/z 249にピークが観測された。FT-ICR装置を用いた精密質量測定の結果,m/z 249イオンの化学組成はC_<14>H_<25>Si_2^+であり,[TMS-SiC-Ad]にプロトン付加したイオンであると予想された。

The compound is unstable and the solution is difficult to separate. Under vacuum,SiC molecules are decomposed into single molecules, and SiC molecules are generated into triple bonds. The purpose of this study is to determine the structure of SiC by mass spectrometry. 1-silacyclobut-3-ene inducer was synthesized and analyzed by MS/MS 2-adamanty1-4-tert-buty1-2-trimethylsiloxy-1,1-bis(trimethylsilyl)-1-silacyclobut-3-ene was separated from TMS,tert-butyl and (TMS)_2O by MS/MS. As a result of the precise mass measurement of the compound at m/z 330 by FT-ICR, the chemical composition of the compound is C_<20>H_<34>Si_2^&lt;+·&gt;, and the molecular mass of the compound is (TMS)_2O. In the chemical chamber, the production process is carried out by selecting [M-(TMS)_2O]^&lt;+·&gt;, and the decomposition process is carried out by using FT-ICR equipment. [M-(TMS)_2O]^&lt;+·&gt; MS/MS, CH_3 dissociation, C_3H_5 dissociation,m/z 249. The results of FT-ICR precision mass measurement show that the chemical composition of the compound at m/z 249 is C_<14>H_<25>Si_2^+,[TMS-SiC-Ad].

项目成果

Takae Takeuchi: "Unimolecular Dissociatin of Gaseous Ions in EI Mass Spectrometry" J.Mass Spectrom.Soc.Jpn.46・6. 477-482 (1998)

Takae Takeuchi：“EI质谱中气体离子的单分子解离”J.Mass Spectrom.Soc.Jpn.46・6（1998）。

木村正人: "イオンビームプロセスにおける電荷の役割" 大阪工業技術研究所報告. 392. 29-33 (1998)

Masato Kimura：“离子束过程中电荷的作用”大阪工业大学报告 392. 29-33 (1998)。

Takae Takeuchi: "Effect of charge on ion-solid interaction at the surface of two-dimensional materials" Nucl..Instrum.Meth.Phys.Res.B. 148・1-4. 132-136 (1999)

Takae Takeuchi：“电荷对二维材料表面离子-固体相互作用的影响”Nucl..Instrum.Meth.Phys.Res.B 148・1-136（1999）

Takae Takeuchi: "An Ab Initio MO Study on the Fragmentation Mechanism of Silacycloalkane Ions in Mass Spectrometry." Adv.Mass Spectrom.14. 3580-3590 (1998)

Takae Takeuchi：“质谱中硅杂环烷离子断裂机制的从头开始 MO 研究。”

山本正夫: "質量スペクトルデータ集" 日本質量分析学会, 1940 (1998)

Masao Yamamoto：《质谱数据收集》日本质谱学会，1940 年（1998 年）