機能性有機ケイ素ポリマーの合成の反応設計

功能性有机硅聚合物合成的反应设计

• 批准号: 06855102
• 负责人: 竹内 孝江
• 金额: $ 0.58万
• 依托单位: Nara Women's University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1994
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1994 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-06855102/
• 关键词: 有機ケイ素化合物; ブチルメチルシラン; ブチルジメチルシラン; ブチルトリメチルシラン; Ab Initio MO計算; マススペクトル; イオン-分子反応; フラグメンテーション機構

新機能性材料として注目されている有機ケイ素ポリマーの合成反応を設計することを目的として,有機ケイ素とアルケンのイオン-分子反応をMS/MS実験および量子化学計算により研究した。まず,CH_3SiH_2^+イオンとエチレン分子とのイオン-分子反応の反応機構について検討した。MS/MS実験に使用したCH_3SiH_2^+イオンは,メチルプロピルシランイオンの単分子分解によって生成させた。衝突室にエチレンガスを導入し,衝突エネルギーを2keV(高エネルギー)および50eV(低エネルギー)の2つの条件で,CH_3SiH_2^+イオンと衝突させた。MS/MS装置はJEOL JMS-HX/HX110Aタンデム質量分析計を用いた。このイオン-分子反応のポテンシャルエネルギー曲線と最適化構造をab initio MO法により計算した。その結果,CH_3SiH_2^+イオンとエチレン分子はケイ素にエチレンのπ-オ-ビタルが配位した構造の安定な中間体を形成し,この反応は,1.3eV(3-21G基底)の発熱反応であることがわかった。この中間体では,エチレンのπ-結合とケイ素原子との距離は2.3Aで,正電荷はケイ素原子に局在していた。生成した[CH_3SiH_2^+]C_2H_4は,さらにより安定な中間体(C_2H_5)(CH_3)SiH^+と(CH_3)_3Si^+に異性化することがab initio MO計算の結果からわかった。次に,ブチルメチルシラン,ブチルジメチルシラン,およびブチルトリメチルシランの分子イオンの分解機構をリンク走査法とab initio MO法を用いて検討した。Si原子に結合するメチル基の数が増えるにつれて,CH_3脱離によるイオンが多く生成した。分子イオンからのH脱離はSiに結合したHに由来し,H_2脱離は1,1-脱離と1,4-脱離によることがわかった。Si-C超共役による安定化エネルギーが[CH_3SiH_2CH_2CH_2]^+生成の推進力であることもわかった。Si-C超共役による安定イオンの存在は,有機ケイ素に特徴的な性質であり,これを生かした機能性有機ケイ素の分子設計への足がかりが得られた。

The new functional materials pay close attention to the synthesis of anti-mechanical devices in the presence of organic materials. The purpose of this paper is to study the synthesis of organic compounds. The purpose of this paper is to study the synthesis of molecular anti-molecular anti-MS/MS devices. Now, CH_3SiH_ 2 ^ + you need to know that the molecular counteraction mechanism is responsible for the diagnosis and treatment of the disease. MS/MS molecules use Ch _ 3SiH2^ + molecular decomposition to generate molecular decomposition. In the room, the 2keV (high temperature), the 50eV (low temperature), the condition (2), the condition (2 ^ +), the condition (2), and the condition (2). The MS/MS device is used for quantitative analysis of JEOL JMS-HX/HX110A equipment. This is the most efficient way to make the ab initio MO method to calculate the curve. The results show that CH_3SiH_ 2 ^ + is responsible for the formation of body formation in the production of diazepam, and that the 1.3eV (3-21G substrate) has a negative effect on the formation of the body. The atomic distance between the two atoms is about 2.3A, and the positive charge is not in the temperature range of 2.3A. Generate the [CH_3SiH_ 2 ^ +] C_2H_4, which is called "C_2H_5" (CH_3) sih ^ + "(CH_3) 3Si^ +". The results of the ab initio MO calculation show that the calculation results are not valid. In the second place, we need to know how to use the ab initio MO method in the molecular decomposition mechanism. The Si atom is combined with the base number of data, and the CH_3 is separated from each other. Molecular isolation, Si isolation, combined with the cause of the disease, Homo 2, 1, 1, 4, 4, 1, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 5, 4, 5, 4, 5, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4, 4. Si-C super-co-service stabilizers are stabilized. [CH_3SiH_2CH_2CH_2] ^ + generates a propulsion force. The Si-C super-communal health care system validates that there is a device, and that there is a mechanism for the production of a drug, and that the molecular design of the molecular design is sufficient to achieve a high level of performance.

项目成果

Takae Takeuchi: "Fragmentation Mechanisms of Butylmethylsilane,Butyldimethylsilane,and Butyltrimethylsilane lons in El Mass Spectrometry.1.Experimental Approach" J.Mass Spectrom.Soc.Jpn.43. 53-63 (1995)

Takae Takeuchi：“El 质谱中丁基甲基硅烷、丁基二甲基硅烷和丁基三甲基硅烷的断裂机制。1.实验方法”J.Mass Spectrom.Soc.Jpn.43。